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        三星HBM3E仍未通過英偉達認證,根源在1a制程DRAM?

        發(fā)布人:芯智訊 時間:2024-12-30 來源:工程師 發(fā)布文章

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        10月17日消息,據(jù)韓國媒體ZDNet Korea報導,雖然三星今年以來積極地想通過英偉達HBM3E認證,期望打入英特爾的供應鏈,但8層堆疊的HBM3E產(chǎn)品仍未通過認證,12層堆疊的產(chǎn)品很可能將延后至2025年第二季或第三季之后才有機會供應。

        有專家指出,三星HBM的問題就是核心芯片DRAM。HBM結構是將多個DRAM垂直堆疊連接,DRAM性能與HBM性能直接相關。因此懷疑用于三星HBM3E的DRAM,即三星1a制程第四代DRAM出了問題。

        報道解釋稱,10nm級制程DRAM產(chǎn)品,分為第一代1x制程、第二代1y制程、第三代1z制程、第四代1a制程和目前主流的第五代1b制程。第四代1a制程DRAM線寬約14nm,三星于2021下半年量產(chǎn),盡管比對手早,還用了EUV來提高產(chǎn)能,但未讓三星1a制程DRAM競爭力提升,反而因用EUV難度較高,讓三星1a制程DRAM生產(chǎn)成本遲遲無法下降。

        另外,三星1a制程DRAM設計不夠完美,尤其服務器產(chǎn)品開發(fā)受挫,使商用較競爭對手落后。SK海力士2023年1月1a制程DRAM的DDR5服務器產(chǎn)品率先通過英特爾認證,而三星HBM3E卻遲遲無法通過英偉達認證。

        三星日前平澤產(chǎn)線全面清查英偉達認證過八層堆疊HBM3E產(chǎn)品,但沒有問題,三星自行檢查只查出數(shù)據(jù)處理速度低于其他產(chǎn)品,較SK海力士和美光產(chǎn)品低約10%。

        三星考慮新方法,就是部分重新設計1a制程DRAM,之后再恢復服務器DRAM和HBM產(chǎn)品競爭力。市場人士表示,三星還未最后決定。但若重新設計,三星須承受更大營運壓力。

        目前三星正面臨半導體業(yè)務獲利壓力,此外智能手機、家電、顯示器等部門都面臨困境。此前由于三季度營業(yè)利潤低于市場預期,三星電子還罕見地發(fā)布聲明致歉。

        編輯:芯智訊-浪客劍


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        關鍵詞: 三星

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