按全球第一大光刻設(shè)備供應(yīng)商ASML公司的預(yù)估，其Q1的銷售額將從08年Q4的4.94億歐元下降到1.84億歐元，而去年同期為9.19億歐元，下降達(dá)80%。

　　ASML預(yù)計(jì)Q2的銷售額在2.1-2.3億歐元間，因?yàn)槭芄に囍瞥痰倪M(jìn)一步縮小推動(dòng)，產(chǎn)業(yè)可能會(huì)在今年下半年開始復(fù)蘇，訂單回歸到4.0-5.0億歐元。新的工藝制程會(huì)要求購買新的或者升級(jí)現(xiàn)有的設(shè)備。

　　如08年僅只有各領(lǐng)域的領(lǐng)先者在購買設(shè)備，主要集中在如閃存flash的45nm、DRAM的55nm及代工的45nm客戶。預(yù)計(jì)2009年會(huì)加速工藝制程的進(jìn)步，如flash進(jìn)入35nm及DRAM進(jìn)入45nm。

　　Q1之所以銷售額低是因?yàn)閮H只有7臺(tái)新設(shè)備發(fā)貨，其中1臺(tái)為浸液式設(shè)備(說明還有部分二手設(shè)備發(fā)貨)。在Q1中新光刻設(shè)備每臺(tái)的平均售價(jià)，ASP為1380萬歐元，但浸液式光刻設(shè)備高達(dá)2500-3000萬歐元。

　　而Q1的訂單中，ASP為2580萬歐元，包括7臺(tái)是浸液式設(shè)備。如果加上backlog公司共計(jì)有38臺(tái)設(shè)備的訂單，其中25臺(tái)為浸液式，由此也表示未來的訂單中浸液式光刻設(shè)備的數(shù)量逐漸增多。

　　ASML還有5臺(tái)EUV訂單，但是要2010年之后才能發(fā)貨。由于公司backlog僅限于未來12個(gè)月內(nèi)發(fā)貨計(jì)，所以目前EUV的訂單都未計(jì)在backlog中。

　　在今年的SPIE先進(jìn)光刻會(huì)議上報(bào)道利用EUV的技術(shù)己實(shí)現(xiàn)全視場的28nm線及間隔(dence lines)。

　　雖然如此，ASML公司仍有在2010年時(shí)發(fā)出5臺(tái)EUV設(shè)備的計(jì)劃。

　　ASML對于全球EUV設(shè)備約50億歐元的大市場中，預(yù)計(jì)能占據(jù)市場份額70%。但是現(xiàn)在公司更直接的市場是光刻兩次成象技術(shù)(double patterning)設(shè)備。

　　公司計(jì)劃于今年7月初發(fā)貨第一臺(tái)Twinscan NXT設(shè)備，它可以實(shí)現(xiàn)2nm的套刻精度。ASML公司希望全球能有100%的市場份額。因?yàn)樵摷夹g(shù)可能延伸現(xiàn)有的光刻技術(shù)應(yīng)用于22nm的Logic電路、35nm的閃存電路及40nm的DRAM之中。

　　由此可見，利用現(xiàn)有光學(xué)方法的光刻技術(shù)完全能滿足2010年后一段時(shí)間內(nèi)全球光刻市場的需求。