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        硅頻率控制器(SFC)技術(shù)(二)

        作者: 時間:2013-09-22 來源:網(wǎng)絡(luò) 收藏
        圖2 并行振蕩模式等效電路圖

          R1:動態(tài)阻抗

          C1:動態(tài)電容

          L1:動態(tài)電感

          C0:靜態(tài)電容

          CL:負載電容

          并行振蕩模式的頻率可根據(jù)以下公式:

          FL=[1/2π√(L1*C1))] 2eq eq *√[1+C1/(C0+CL)]

          其中[1/2π√(L1*C1))]是晶體串行振蕩模式的頻率

          根據(jù)泰勒展開:

          FL=[1/2π√(L1*C1) 2eq eq ]*[1+C1/2(C0+CL)] (1)

          從公式中可以看出,頻率與C0,C1和CL都有關(guān)。

          在基頻諧振中C1為10-30fF,一般取值為20fF。C0取值與晶體的尺寸有關(guān),一般取值為5pF。但是CL的計算與晶體外接電容和PCB設(shè)計和材料有關(guān)。下圖是參考電路圖

          

        硅頻率控制器(SFC)技術(shù)(二)

          圖3 晶體外接負載電容示意圖

          從上面電路中可得出:

          1/(C11+CS1)+1/(C12+CS2)=1/(CL) (2)

          其中C11,C12是外接電容,也就是線路設(shè)計中放在晶體兩邊接地的兩個電容。CS1和CS2是寄生電容,和PCB 電路板的走線,焊盤及芯片的管腳有關(guān)。一般為5-10pF(在本文的計算中可設(shè)為8pF)。對于C11和C12,沒有確定的值(15pF-30pF),這和實際設(shè)計有關(guān),例如取18pF。

          CL如有變化,并行振蕩模式的頻率也隨之變化,請看圖4

          

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