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        自動測試設(shè)備應(yīng)用中PhotoMOS開關(guān)的替代方案

        —— 非常見問題解答第233期
        作者:Edwin Omoruyi,高級應(yīng)用工程師 時間:2025-05-29 來源:EEPW 收藏


        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/202505/470985.htm

        問題

        人工智能(AI)應(yīng)用對高性能內(nèi)存,特別是高帶寬內(nèi)存(HBM)的需求不斷增長,這是否會導(dǎo)致(ATE)廠商的設(shè)計變得更加復(fù)雜?

        回答

        AI需要高密度和高帶寬來高效處理數(shù)據(jù),因此HBM至關(guān)重要。ATE廠商及其開發(fā)的系統(tǒng)需要跟上先進(jìn)內(nèi)存接口測試的發(fā)展步伐。公司的CMOS開關(guān)非常適合ATE廠商的內(nèi)存晶圓探針電源測試。這些CMOS開關(guān)擁有快速導(dǎo)通和可擴展性等特性,能夠提升測試并行處理能力,從而更全面、更快速地測試內(nèi)存芯片。

        簡介

        隨著AI應(yīng)用對高性能內(nèi)存,尤其是高帶寬內(nèi)存(HBM)的需求不斷增長,內(nèi)存芯片設(shè)計將變得更加復(fù)雜。ATE廠商是驗證內(nèi)存芯片的關(guān)鍵一環(huán),目前正面臨著越來越大的壓力,需要不斷提升自身能力以滿足這一需求。傳統(tǒng)上,在存儲器晶圓探針電源應(yīng)用中,?開關(guān)因其良好的低電容乘電阻(CxR)特性而得到采用。低CxR有助于減少信號失真,改善開關(guān)關(guān)斷隔離度,同時實現(xiàn)更快的開關(guān)速度和更低的插入損耗。

        除了上述優(yōu)點外,開關(guān)的關(guān)斷電壓也較高,但也存在一些局限性,主要體現(xiàn)在可靠性、可擴展性和導(dǎo)通速度方面。其中,導(dǎo)通速度較慢一直是客戶不滿的一大原因。

        為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn),公司開發(fā)出了新型開關(guān)來取代存儲器晶圓探針電源應(yīng)用中的開關(guān)不僅導(dǎo)通速度非???,而且同樣具備低CxR特性,可以確保高效切換。此外還具有良好的擴展性,能夠改善測試的并行處理能力,使ATE能夠處理更大規(guī)模、速度更快的測試任務(wù)。如今AI應(yīng)用對高效和高性能內(nèi)存測試的需求日益增長,為此,ATE公司正積極尋求更優(yōu)的解決方案。在這種背景下,ADI開關(guān)憑借一系列出色特性,成為了PhotoMOS的有力替代方案。

        應(yīng)用原理圖

        在ATE設(shè)置中,開關(guān)扮演著非常重要的角色。開關(guān)能夠?qū)⒍鄠€被測器件(DUT)連接到同一個測量儀器(例如參數(shù)測量單元PMU),或者將它們從測量儀器上斷開,以便執(zhí)行測試流程。具體來說,開關(guān)使得PMU能夠高效地向不同DUT施加特定電壓,并檢測這些DUT反饋的電流。開關(guān)能夠簡化測試流程,在需要同時或依次測試多個DUT的情況下,這種作用更加突出。通過使用開關(guān),我們可以將PMU的電壓分配到多個DUT,并檢測其電流,這不僅提高了測試效率,還大幅減少了每次測試之間重新配置測試裝置的麻煩。

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        圖1 PMU開關(guān)應(yīng)用

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        圖2 PhotoMOS和CMOS開關(guān)架構(gòu)

        圖1展示了如何利用開關(guān)輕松構(gòu)建矩陣配置,使得一個PMU就能評估多個DUT。這種配置減少了對多個PMU的需求,并簡化了布線,從而顯著提高了ATE系統(tǒng)的靈活性和可擴展性,對于大批量或多器件的測試環(huán)境至關(guān)重要。

        開關(guān)架構(gòu)

        為便于理解評估研究(即利用開發(fā)的硬件評估板對PhotoMOS開關(guān)和CMOS開關(guān)進(jìn)行比較)以及研究得出的結(jié)果,有必要對PhotoMOS開關(guān)和CMOS開關(guān)進(jìn)行比較。從二者的開關(guān)架構(gòu)開始比較更易于看出差別。

        CMOS開關(guān)和PhotoMOS開關(guān)的架構(gòu)不同,圖2顯示了開關(guān)斷開時的關(guān)斷電容(COFF)。該寄生電容位于輸入源極引腳和輸出引腳之間。

        對于PhotoMOS開關(guān),COFF位于漏極輸出引腳之間。此外,PhotoMOS開關(guān)具有輸入到輸出電容(也稱為漏極電容),同時在其用于導(dǎo)通和關(guān)斷輸出MOSFET的發(fā)光二極管(LED)級也存在輸入電容。

        對于CMOS開關(guān),COFF位于源極和漏極引腳之間。除了COFF之外,CMOS開關(guān)還有漏極對地電容(CD)和源極對地電容(CS)。這些對地電容也是客戶在使用CMOS開關(guān)時經(jīng)常抱怨的問題。

        當(dāng)任一開關(guān)使能時,輸入信號便可傳輸至輸出端,此時源極和漏極引腳之間存在導(dǎo)通電阻(RON)。通過了解這些架構(gòu)細(xì)節(jié),我們可以更輕松地分析評估研究中的電容、RON和開關(guān)行為等性能指標(biāo),確保為特定應(yīng)用選擇正確的開關(guān)類型。

        開關(guān)規(guī)格和附加值

        為了更好地對開關(guān)進(jìn)行定性和定量評估,應(yīng)該考察其在系統(tǒng)設(shè)計應(yīng)用中帶來的附加值。如上所述,對于圖1所示應(yīng)用,ADG1412是理想選擇,可以輕松替代PhotoMOS開關(guān)。這款CMOS開關(guān)是四通道單刀單擲(SPST)器件,擁有出色的特性,包括高功率處理能力、快速響應(yīng)時間、低導(dǎo)通電阻和低漏電流等。設(shè)計人員可以通過比較表1列出的重要指標(biāo),評估CMOS開關(guān)性能并打分,從而量化其相對于其他替代方案的優(yōu)勢。這有助于更深入地了解器件的信號切換效率,對于復(fù)雜或敏感的電子系統(tǒng)非常有幫助。

        表1 開關(guān)規(guī)格

        評估標(biāo)準(zhǔn)

        PhotoMOS
          1-Form-A (1)

        ADG1412
          (四通道SPST)

        附加值

        記分卡

        漏電流

        1nA

        30pA

        非常適合漏電流測試;輸出端電壓誤差貢獻(xiàn)更小

        CMOS開關(guān)更好

        COFF

        0.45pF

        1.6pF

        波形失真更小,隔離度更高

        PhotoMOS開關(guān)更好

        RON

        12Ω

        1.5Ω

        輸出端信號壓降較低,插入損耗更低

        CMOS開關(guān)更好

        (CxR)乘積

        5.4pF.Ω

        2.4pF.Ω*

        波形失真更小、隔離度更高、信號損失較低

        PhotoMOS開關(guān)略勝一籌,因為其漏極電容較低

        漏極電容[CD(OFF)]

        1pF

        23pF

        值越高,CxR性能越差,導(dǎo)致輸入信號失真,關(guān)斷隔離度降低

        PhotoMOS開關(guān)更好

        導(dǎo)通速度

        200μs

        100ns

        切換能力較快

        CMOS開關(guān)更好

        電壓、電流能力

        (32V、120mA)

        (32V、250mA)

        能夠?qū)⒏噍敵鲵?qū)動電流傳輸?shù)截?fù)載

        CMOS開關(guān)更好

        成本/通道

        有助于提高通道密度,成本最多降低50%

        CMOS開關(guān)更好

        封裝面積

        3.55mm2

        每個開關(guān)4.00 mm2

        布局后開關(guān)面積非常接近

        非常接近

        *CD(OFF)會影響CxR乘積性能

        關(guān)斷隔離:開關(guān)斷開時的電容

        兩種開關(guān)的關(guān)斷隔離曲線(圖3)表明,輸入信號受到高度抑制(100kHz時為-80 dB),未到達(dá)輸出端。隨著頻率提高,PhotoMOS的性能開始略高一籌,二者相差-10dB。對于圖1所示的開關(guān)應(yīng)用(直流(DC)切換),開關(guān)電容并不重要,重要的開關(guān)參數(shù)是低漏電流、高導(dǎo)通速度和低插入損耗。

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        圖3 關(guān)斷隔離曲線

        插入損耗:開關(guān)導(dǎo)通電阻

        低RON的開關(guān)至關(guān)重要。I*R電壓降會限制系統(tǒng)性能。各器件之間以及溫度變化引起的RON波動越小,測量誤差就越小。圖4中的插入損耗曲線顯示,在100 kHz頻率下,PhotoMOS開關(guān)的插入損耗為-0.8 dB,而CMOS開關(guān)的插入損耗僅為-0.3 dB。這進(jìn)一步證實了CMOS開關(guān)具有較低的RON (1.5Ω)。

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        圖4 插入損耗曲線

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        圖5 開關(guān)導(dǎo)通時間

        開關(guān)導(dǎo)通時間

        當(dāng)驅(qū)動使能/邏輯電壓施加到任一開關(guān)上,使其閉合并將輸入信號傳遞到輸出端時,如果使用的是PhotoMOS開關(guān),則會存在明顯的延遲(如圖5所示)。這種較慢的導(dǎo)通速度由于LED輸入級的輸入電容,以及內(nèi)部電路將電流轉(zhuǎn)換為驅(qū)動MOSFET柵極所需電壓的過程中產(chǎn)生的延遲造成的。導(dǎo)通速度慢一直是客戶不滿的主要原因,而且會影響系統(tǒng)整體應(yīng)用的速度和性能。相比之下,CMOS開關(guān)的導(dǎo)通速度(100 ns)是PhotoMOS開關(guān)(200,000 ns)的2000倍(×2000),更能滿足系統(tǒng)應(yīng)用所需。

        設(shè)計遷移:PhotoMOS替換為ADG1412開關(guān)

        如果系統(tǒng)中使用的是PhotoMOS開關(guān),并且遇到了測量精度不高、導(dǎo)通速度慢導(dǎo)致系統(tǒng)資源占用過多,以及難以提高通道密度等問題,那么升級到采用CMOS開關(guān)的方案將使開發(fā)變得非常簡單。圖6顯示了PhotoMOS開關(guān)與CMOS開關(guān)的連接點對應(yīng)關(guān)系。因此,系統(tǒng)設(shè)計可以利用CMOS開關(guān),以更低的成本實現(xiàn)更高的通道密度。

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        圖6 開關(guān)連接點

        ADI開關(guān)可提高通道密度

        表2列出了一些能夠提高通道密度的ADI開關(guān)示例。這些開關(guān)具有與ADG1412類似的性能優(yōu)勢,導(dǎo)通電阻更低(低至0.5 Ω),而且成本比PhotoMOS開關(guān)還低。這些開關(guān)提供串行外設(shè)接口(SPI)和并行接口,方便與控制處理器連接。

        表2 能夠提高通道密度的ADI開關(guān)示例

        產(chǎn)品

        RON(Ω)

        開關(guān)配置

        1ku標(biāo)價/通道($)

        ADG2412

        0.5

        四通道SPST

        非常有競爭力

        ADG6412

        0.5

        四通道SPST

        非常有競爭力

        ADGS2414D

        0.56

        SPI:八通道SPST

        非常有競爭力

        結(jié)論

        本文著重說明了CMOS開關(guān)的潛力。在ATE應(yīng)用中,ADG1412可以很好地取代PhotoMOS開關(guān)。比較表明,CMOS開關(guān)的性能達(dá)到甚至超過了預(yù)期,尤其是在對開關(guān)電容或漏極電容要求不高的場合。此外,CMOS開關(guān)還擁有顯著的優(yōu)勢,例如更高的通道密度和更低的成本。

        ADI公司的CMOS開關(guān)產(chǎn)品系列非常豐富,不僅提供導(dǎo)通電阻更低的型號,還支持并行和SPI兩種控制接口,從而更加有力地支持了在ATE系統(tǒng)中使用CMOS開關(guān)的方案。

        作者簡介

        Edwin Omoruyi是ADI愛爾蘭公司儀器儀表事業(yè)部的高級產(chǎn)品應(yīng)用工程師。2007年,他畢業(yè)于利默里克理工學(xué)院,獲得電子系統(tǒng)工程學(xué)士榮譽學(xué)位。2010年,他畢業(yè)于利默里克大學(xué),獲得超大規(guī)模集成電路(VLSI)碩士榮譽學(xué)位。2010年至2018年,Edwin擔(dān)任ADI公司汽車和座艙電子事業(yè)部的應(yīng)用工程師,之后于2023年,他再次加入ADI公司。除了在ADI公司的工作經(jīng)歷之外,他還曾在汽車和制造行業(yè)擔(dān)任系統(tǒng)架構(gòu)師,負(fù)責(zé)AD/ADAS傳感應(yīng)用開發(fā)。



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