據(jù)媒體報(bào)道，當(dāng)?shù)貢r(shí)間4月30日，歐洲首個(gè)尖端半導(dǎo)體工廠在英國南安普頓大學(xué)正式投入運(yùn)營。該工廠配備了全球第二臺(tái)、歐洲首臺(tái)的新型電子束光刻設(shè)備，將利用先進(jìn)的電子束技術(shù)制造下一代半導(dǎo)體。
電子束光刻（Electron Beam Lithography, EBL）是一種基于電子束直寫或投影的納米級(jí)圖形加工技術(shù)，其核心特點(diǎn)在于突破光學(xué)衍射極限，能夠?qū)崿F(xiàn)亞10納米級(jí)的超高精度加工。通過聚焦電子束，該技術(shù)可在材料表面刻畫出比人類頭發(fā)細(xì)數(shù)千倍的微小特征，分辨率遠(yuǎn)超傳統(tǒng)光刻技術(shù)。此外，電子束光刻無需依賴掩膜即可直接進(jìn)行圖案化處理，特別適合研發(fā)、原型設(shè)計(jì)以及小批量生產(chǎn)。
這項(xiàng)技術(shù)在先進(jìn)半導(dǎo)體制造中發(fā)揮著重要作用，尤其是在高精度圖形加工領(lǐng)域。例如，它可用于制作光學(xué)掩模版、微納加工器件，同時(shí)也廣泛應(yīng)用于科研與教育領(lǐng)域，助力高精度圖形的制作與研究。
英國科學(xué)大臣Patrick Vallance表示，南安普頓大學(xué)的新電子束設(shè)施將顯著提升該國在半導(dǎo)體領(lǐng)域的研發(fā)和制造能力，為技術(shù)創(chuàng)新提供強(qiáng)有力的支持。