低端光掩模 文章 進入低端光掩模技術(shù)社區(qū)
三星外包低端光掩模，將資源集中在ArF和EUV上
- 據(jù) The Elec 報道，三星計劃外包用于存儲芯片制造的光掩模的生產(chǎn)。到目前為止，該公司一直在內(nèi)部生產(chǎn)所有光掩模，以防止技術(shù)泄漏。Elec 表示，據(jù)報道，三星正在評估低端光掩模的潛在供應商，例如 i-line 和 KrF。與此同時，消息人士稱，三星計劃將 i-line 和 KrF 光掩模外包，以便將這些資源重新分配給 ArF 和 EUV。正如報告所強調(diào)的那樣，ArF 和 EUV 光掩模更先進，將成為增強三星技術(shù)競爭力的關(guān)鍵。據(jù) Business Korea 援引消
- 關(guān)鍵字： 三星 低端光掩模 ArF EUV
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低端光掩模介紹
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