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        三星外包低端光掩模，將資源集中在ArF和EUV上
        
                                                            
          
                    	
        • 據(jù) The Elec 報道，三星計劃外包用于存儲芯片制造的光掩模的生產(chǎn)。到目前為止，該公司一直在內(nèi)部生產(chǎn)所有光掩模，以防止技術泄漏。Elec 表示，據(jù)報道，三星正在評估低端光掩模的潛在供應商，例如 i-line 和 KrF。與此同時，消息人士稱，三星計劃將 i-line 和 KrF 光掩模外包，以便將這些資源重新分配給 ArF 和 EUV。正如報告所強調(diào)的那樣，ArF 和 EUV 光掩模更先進，將成為增強三星技術競爭力的關鍵。據(jù) Business Korea 援引消
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        • 關鍵字：
                        三星  低端光掩模  ArF  EUV                          
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        三星被曝將首次外包芯片“光掩?！鄙a(chǎn)，聚焦ArF和EUV等先進技術
        
                                                            
          
                    	
        • 5 月 14 日消息，光掩模（版）系生產(chǎn)集成電路所需之模具，是用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構，其原理類似于沖洗相片時利用底片將影像復制到相片上。韓國科技媒體 TheElec 今日報道稱，三星電子正計劃將內(nèi)存芯片制造所需的光掩模生產(chǎn)業(yè)務進行外包。據(jù)稱，目前三星已啟動供應商評估流程，候選企業(yè)包括日本 Toppan 控股子公司 Tekscend Photomask 和美國 Photronics 旗下 PKL（注：廠址位于京畿道），評估結果預計第三季度公布。TheElec 報道稱，三星準備將低端產(chǎn)品（i-
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        • 關鍵字：
                        三星  外包芯片  光掩模  ArF  EUV  半導體                          
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        三星旗下Semes成功開發(fā)出一種ArF-i光刻涂膠/顯影設備
        
                                                            
          
                    	
        • 6月24日，三星電子旗下的韓國半導體和顯示器制造設備公司表示，第一臺名為“Omega Prime”的設備已于去年供貨，Semes正在制造第二臺設備。Semes表示，在Omega Prime設備上應用了噴嘴、烘烤溫度和機器人位置自動調(diào)整系統(tǒng)，以消除涂布層的偏差。目前，Semes已制造出KrF光刻涂膠/顯影設備，并在此基礎上開發(fā)了ArF版本，以支持波長更短的新型光刻機。
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        • 關鍵字：
                        三星  Semes  ArF-i  光刻涂膠  顯影設備                          
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        傳日本光刻膠大廠JSR將在韓國建立ArF產(chǎn)線
        
                                                            
          
                    	
        • 韓媒報道，全球第一光刻膠大廠日本JSR計劃將在韓國青州建立一條生產(chǎn)用于ArF的光刻膠產(chǎn)線，用于供貨
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        • 關鍵字：
                        日本  JSR  ArF                          
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