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        EEPW首頁 >> 主題列表 >> 3d x-dram

        第二季度DRAM跌幅估縮小

        • 根據(jù)市調(diào)預估,第二季整體DRAM平均價格跌幅約0~5%,跌幅相較上季已明顯縮小。由于買賣雙方庫存略偏高,再加上需求面如筆電、智能型手機等受近期俄烏戰(zhàn)事和高通膨影響,進而削弱消費者購買力道,目前僅服務器為主要支撐內(nèi)存需求來源,故整體第二季DRAM仍有供過于求情形。在標準型PC DRAM方面,受俄烏戰(zhàn)爭影響,引發(fā)PC OEM對第二季的訂單采保守備貨策略,且可能持續(xù)影響下半年旺季訂單情形,進而下修今年的出貨目標,然而整體供給位卻仍在增長,故第二季PC DRAM價格跌幅達3~8%,且可能會進一步惡化。在服務器DR
        • 關鍵字: DRAM  集幫咨詢  

        適用于 TMAG5170 SPI 總線接口、高精度線性 3D 霍爾效應傳感器的評估模塊

        • TMAG5170UEVM 是一個易于使用的平臺,用于評估 TMAG5170 的主要特性和性能。此評估模塊 (EVM) 包含圖形用戶界面 (GUI),用于讀取和寫入寄存器以及查看和保存測量結果。還包括一個 3D 打印旋轉(zhuǎn)和推送模塊,用于通過單個器件測試角度測量和按鈕的常用功能。特性· GUI 支持讀取和寫入器件寄存器以及查看和保存測量結果· 3D 打印旋轉(zhuǎn)和推送模塊· 可分離式 EVM 適用于定制用例· 方便通過常見的 micro-USB 連接器充電
        • 關鍵字: 精密數(shù)模轉(zhuǎn)換器  霍爾效應傳感器  3D  

        三星LPDDR5X DRAM已在高通驍龍移動平臺上驗證使用

        • 今日三星宣布,高通技術公司(Qualcomm Technologies, Inc.)已經(jīng)驗證了三星14納米(nm) 16Gb低功耗雙倍數(shù)據(jù)速率5X (LPDDR5X) DRAM,并應用于高通技術公司的驍龍(Snapdragon?)移動平臺。自去年11月開發(fā)出三星首款基于14nm的LPDDR5X DRAM以來,三星與高通技術公司密切合作,優(yōu)化7.5千兆比特每秒(Gbps)的LPDDR5X,用于驍龍移動平臺。LPDDR5X的速度比目前高端智能手機上的LPDDR5 (6.4Gbps)快約1.2倍,有
        • 關鍵字: 三星  LPDDR5X  DRAM  高通  驍龍  

        摩爾定律如何繼續(xù)延續(xù):3D堆疊技術或許是答案

        • 按照摩爾定律進一步縮減晶體管特征尺寸的難度越來越大,半導體工藝下一步發(fā)展走到了十字路口。在逼近物理極限的情況下,新工藝研發(fā)的難度以及人力和資金的投入,也是呈指數(shù)級攀升,因此,業(yè)界開始向更多方向進行探索。
        • 關鍵字: 摩爾定律  3D  堆疊技術  

        雙目立體賦能3D機器視覺,銀牛攜芯片模組登陸中國市場

        • 1? ?幾種3D深度感知技術比較3D深度感知主要有3個技術方向:雙目立體,結構光,飛行時間(ToF),結構光起步比較早,但是技術的局限性較大,而雙目立體的發(fā)展速度較快,勢頭迅猛。從物理原理上,雙目立體和結構光二者都用了三角測距,但是雙目立體是依靠自然的紅外反射在攝像頭上產(chǎn)生特征點,來計算對象物深度的數(shù)據(jù)。結構光需要有一個發(fā)射光的發(fā)射源,帶編碼的光到了對象物體再反射回來來計算這個深度。結構光的弱點是在室外時,結構光發(fā)射帶編碼的光經(jīng)常受到環(huán)境的干擾;而雙目立體不容易受到室外光的干擾,因此室
        • 關鍵字: 3D  雙目  深度  

        微結構不均勻性(負載效應)及其對器件性能的影響:對先進DRAM工藝中有源區(qū)形狀扭曲的研究

        • 隨著晶體管尺寸縮小接近物理極限,制造變量和微負載效應正逐漸成為限制DRAM性能(和良率)的主要因素。而對于先進的DRAM,晶體管的有源區(qū) (AA) 尺寸和形狀則是影響良率和性能的重要因素。在DRAM結構中,電容存儲單元的充放電過程直接受晶體管所控制。隨著晶體管尺寸縮小接近物理極限,制造變量和微負載效應正逐漸成為限制DRAM性能(和良率)的主要因素。而對于先進的DRAM,晶體管的有源區(qū) (AA) 尺寸和形狀則是影響良率和性能的重要因素。在本研究中,我們將為大家呈現(xiàn),如何利用SEMulator3D研究先進DR
        • 關鍵字: DRAM  微結構  

        美光確認EUV工藝DRAM 2024年量產(chǎn):1γ節(jié)點導入

        • 三星、SK海力士及美光確定未來會用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。芯研所8月21日消息,CPU、GPU為代表的邏輯工藝制程進入7nm之后,EUV光刻工藝不可或缺。目前內(nèi)存停留在10nm工藝級別。三星、SK海力士及美光也確定未來會用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采訪中確認,美光已將EUV技術納入DRAM技術藍圖,將由10nm世代中的1γ(gamma)工藝節(jié)點開始導入。美光EUV工藝DRAM將會先在臺中A3廠生產(chǎn),預
        • 關鍵字: 美光  EUV  DRAM  

        TrendForce:第四季PC DRAM合約價將轉(zhuǎn)跌0~5%

        • 根據(jù)TrendForce調(diào)查,第三季PC DRAM合約價格的議定大致完成,受惠于DRAM供貨商的庫存量偏低以及旺季效應,本季合約價調(diào)漲3~8%,但相較第二季25%的漲幅已大幅收斂。然約自七月初起,DRAM現(xiàn)貨市場已提前出現(xiàn)PC DRAM需求疲弱的態(tài)勢。賣方積極調(diào)節(jié)手上庫存,持續(xù)降價求售。合約市場方面,先前PC OEMs因擔憂長短料問題而大量備料,使DRAM庫存已達高水位,庫存迭高問題成為漲價的阻力,再加上歐美逐步解封可能使筆電需求降低,進而拉低PC DRAM的總需求量。因此,預估PC DRAM合約價于第四
        • 關鍵字: TrendForce  PC DRAM  

        三星將在不久后開始生產(chǎn)768GB DDR5內(nèi)存條

        •   三星電子昨天公布了其2021年第二季度的收益。該公司整體表現(xiàn)良好,其內(nèi)存業(yè)務也不例外。該公司預計該部門將持續(xù)增長,尤其是針對高端服務器和高性能計算(HPC)市場的DRAM產(chǎn)品。這就是為什么三星一直在推動其用于此類用途的高密度內(nèi)存模塊,該公司最近發(fā)布了業(yè)界首個512GB DDR5 DRAM模塊,從任何角度看都是一個真正的高容量解決方案?! 〉聦嵶C明,這家韓國巨頭可能還不滿足,因為它計劃在不久的將來的某個時候更進一步,生產(chǎn)768GB DDR5模塊,也就是使用24Gb DRAM芯片。這可以從該公司的財報電
        • 關鍵字: 三星  內(nèi)存  DRAM  DDR5    

        EUV技術開啟DRAM市場新賽程

        • SK海力士公司在7月12日表示,本月已經(jīng)開始生產(chǎn)10納米8Gb LPDDR4移動DRAM —— 他們將在該內(nèi)存芯片生產(chǎn)中應用極紫外(EUV)工藝,這是SK海力士首次在其DRAM生產(chǎn)中應用EUV。根據(jù)SK海力士的說法,比起前一代規(guī)格的產(chǎn)品,第四代在一片晶圓上產(chǎn)出的DRAM數(shù)量增加了約25%,成本競爭力很高。新的芯片將在今年下半年開始供應給智能手機制造商,并且還將在2022年初開始生產(chǎn)的DDR5芯片中應用10納米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士發(fā)布聲明,正式啟用EUV光刻機閃存內(nèi)存芯片,批量生產(chǎn)采用
        • 關鍵字: EUV  DRAM  

        SK海力士開始量產(chǎn)采用EUV技術的第四代10納米級DRAM

        • SK海力士宣布已于7月初開始量產(chǎn)適用第四代10納米(1a)級工藝的?8Gigabit(Gb)?*LPDDR4 移動端DRAM產(chǎn)品。* LPDDR4 (Low Power Double Data Rate 4) – 專為移動終端開發(fā)的低功耗DRAM規(guī)格?!癉DR” 為電子工程設計發(fā)展聯(lián)合協(xié)會(Joint Electron Device Engineering Council,簡稱JEDEC)規(guī)定的DRAM規(guī)格標準名稱,DDR1-2-3-4為其順序進行換代。?圖1.
        • 關鍵字: SK海力士  10納米  DRAM  

        AMD推動高效能運算產(chǎn)業(yè)發(fā)展 首款3D chiplet應用亮相

        • AMD展示了最新的運算與繪圖技術創(chuàng)新成果,以加速推動高效能運算產(chǎn)業(yè)體系的發(fā)展,涵蓋游戲、PC以及數(shù)據(jù)中心。AMD總裁暨執(zhí)行長蘇姿豐博士發(fā)表AMD在高效能運算的最新突破,揭示AMD全新3D chiplet技術;與業(yè)界領導廠商特斯拉和三星合作,擴大了AMD運算與繪圖技術在汽車與手機市場的應用;新款AMD Ryzen處理器瞄準狂熱級玩家與消費性PC;最新AMD第3代EPYC處理器所帶來領先的數(shù)據(jù)中心效能;以及為游戲玩家提供的一系列全新AMD繪圖技術。 AMD總裁暨執(zhí)行長蘇姿豐展示AMD全新3D chi
        • 關鍵字: AMD  3D chiplet  Ryzen  

        美光力推業(yè)界首款176層NAND與 1α DRAM 技術創(chuàng)新

        • 近日,在一年一度的COMPUTEX 2021線上主題演講中,美光總裁兼首席執(zhí)行官 Sanjay Mehrotra代表美光發(fā)布多項產(chǎn)品創(chuàng)新,涵蓋基于其業(yè)界領先的 176 層 NAND 及 1α (1-alpha) DRAM 制程的內(nèi)存和存儲創(chuàng)新產(chǎn)品,并推出業(yè)界首款面向汽車應用的通用閃存 (UFS) 3.1 解決方案。這些創(chuàng)新產(chǎn)品和創(chuàng)新技術體現(xiàn)了美光通過內(nèi)存和存儲創(chuàng)新加速數(shù)據(jù)驅(qū)動洞察的愿景,從而助力數(shù)據(jù)中心和智能邊緣的創(chuàng)新,突出了內(nèi)存和存儲在幫助企業(yè)充分發(fā)揮數(shù)據(jù)經(jīng)濟潛能方面的核心作用。在新的數(shù)據(jù)經(jīng)濟背后,有一
        • 關鍵字: 美光  176層NAND  1α DRAM   

        什么是3D XPoint?為什么它無人能敵卻又前景堪憂?

        • 3D Xpoint技術是美光與英特爾共同開發(fā)的一種非易失性存儲技術。據(jù)悉,3D Xpoint的延遲速度僅以納秒計算,比NAND閃存速度提升1000倍,耐用性也更高,使得在靠近處理器的位置存儲更多的數(shù)據(jù)成為可能,可填補DRAM和NAND閃存之間的存儲空白。
        • 關鍵字: 3D XPoint  美光  英特爾  

        美光專家對1α節(jié)點DRAM的解答

        • 2021 年1 月,美光科技宣布批量出貨基于1α(1-alpha) 節(jié)點的DRAM產(chǎn)品,是目前世界上最為先進的DRAM 技術,在密度、功耗和性能等各方面均有重大突破。為此,《電子產(chǎn)品世界》記者采訪了公司DRAM 制程集成副總裁Thy Tran 女士。美光DRAM制程集成副總裁Thy Tran1? ?1α節(jié)點技術1α 節(jié)點DRAM 相當于10 nm 的第四代,其最小特征尺寸(通常是指內(nèi)存陣列激活區(qū)半間距)在(10~19) nm之間。要做到這一點,需要大幅縮小位線和字線間距——可以說是收縮
        • 關鍵字: 202104  DRAM  
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        3d x-dram介紹

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