- IT之家 8 月 16 日消息，三星電子在持有荷蘭半導體設備制造商 ASML 的股份七年后，決定出售其中一部分。這一舉動被解讀為為投資籌集資金的努力，尤其是在今年該公司的營業(yè)利潤接近虧損的情況下。根據三星電子 8 月 15 日發(fā)布的半年度報告，該公司在 ASML 的持股從第一季度的 629.7787 萬股減少到第二季度的 275.0072 萬股，減少了 354.7715 萬股。因此，三星電子在 ASML 的股份從 1.6% 降至 0.7%。持股的賬面價值（市值）從約 5.59 萬億韓元降至 2.
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三星 ASML
- 主要是本季度 DUV 浸入式收入增加。7 月 19 日，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發(fā)布了 2023 年第二季度財報。期內，ASML 實現了凈銷售額 69 億歐元，毛利率為 51.3%，凈利潤達 19 億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為 45 億歐元，其中 16 億歐元為 EUV 光刻機訂單?！肝覀冾A計第三季度凈銷售額將在 65 億至 70 億歐元之間，毛利率約為 50%。ASML 預計研發(fā)成本約為 10 億歐元，SG&A 成本約為 2.85 億歐元。由于 DUV 收入強勁，盡管由于不確定性增加
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DUV ASML
- 荷蘭菲爾德霍芬，2023年7月19日—阿斯麥（ASML）今日發(fā)布了2023年第二季度財報。2023年第二季度，ASML實現了凈銷售額69億歐元，毛利率為51.3%，凈利潤達19億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為45億歐元2，其中16億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2023年第三季度的凈銷售額在65億至70億歐元之間，毛利率在50%左右。相比2022年，今年ASML的凈銷售額增長率有望達到30%。 (1) 累計裝機管理銷售額等于凈
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ASML 2023年第二季度財報 DUV
- 荷蘭政府又要限制 ASML 賺錢了。
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ASML
- 荷蘭政府宣布了限制某些先進半導體設備出口的新規(guī)定，這些規(guī)定將于9月1日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進芯片制造設備的公司在出口之前須獲得許可證。ASML在其官網發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng)）時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。而ASML強調，該公司的EUV系統(tǒng)的銷售此前已經受到限制。據ASML官網提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機產品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN
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ASML 芯片制造 DUV 光刻
- IT之家 6 月 26 日消息，據日本經濟新聞報道，日本經產省與荷蘭經濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯手進行技術開發(fā)?！?圖源：ASML報道稱，ASML 量產尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經產省提供的補貼，采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到，EUV 光刻機在全球范圍內較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Ra
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ASML 光刻機
- 據日本媒體報導，光刻機設備龍頭阿斯麥（ASML）執(zhí)行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時imec年度盛會ITF World 2023表示，半導體產業(yè)需要2030年開發(fā)數值孔徑0.75的超高NA EUV光刻技術，滿足半導體發(fā)展。Christophe Fouquet表示，自2010年以來EUV技術越來越成熟，半導體制程微縮至2020年前后三年，以超過50%幅度前進，不過速度可能會在2030年放緩。故ASML計劃年底前發(fā)表首臺商用High-NA（NA=0.55）EUV微影曝光設備（原型制作），
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ASML NA EUV 光刻設備
- IT之家 6 月 23 日消息，據彭博社報道，荷蘭政府計劃最快下周發(fā)布新的出口管制措施，將限制 ASML 的半導體制造設備出口?！?圖源：ASML報道稱，此次出口管制名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光（DUV）浸入式光刻設備。IT之家注意到，這一系列設備最高可支持 5 nm 工藝，如臺積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒 (ArFi) 光刻實現了 7 nm 量產。此前，ASML 最先進的極紫外光（EUV）光刻機已在出口管制列表當中
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ASML 出口管制
- 據日經新聞網報道，半導體巨頭三星電子計劃未來20年投資300兆韓元（約合人民幣1.6萬億元），借由效仿臺積電模式，在韓國首爾附近打造新的半導體制造聚落。報道稱，三星這一舉措成功吸引了全球半導體廠商競相在當地投資，包括美國應用材料（Applied Materials）、荷蘭阿斯麥（ASML）等半導體大廠的主管正與首爾周邊京畿道政府辦公室，討論投資計劃、基礎建設發(fā)展及稅收優(yōu)惠政策。其中，應用材料公司正在尋求建立一個新的研發(fā)中心，并計劃在今年年底前完成選址，并在幾年內開始運營，而龍仁是其首選地點；ASML目前則
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三星 半導體聚落 應用材料 ASML
- 知情人士稱，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設備EUV（極紫外光刻機），以制造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補貼。日本經濟產業(yè)大臣西村康稔之后證實了美光在日的進一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產先進存儲芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內的芯片高管代表團，而有關芯片的詳細計劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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1-γ 芯片制程 美光 ASML 光刻機
- 在如今這個信息時代，如果說我們的世界是由芯片堆積起來的高樓大廈，那么芯片制造，則是這里面高樓的地基，而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機，沒錯，作為人類商業(yè)化機器的工程奇跡，光刻機自然是量產高性能芯片的必要設備。特別是隨著這幾年中美貿易戰(zhàn)的加劇，光刻機這種大部分可能一生都不會見到的機器一下子成了婦孺皆知的存在，那么光刻機是如何工作的呢？它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢？本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進，也是我國被“卡脖子”的EUV（極紫外）光刻機。? ? &
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- 目前全球僅4家廠商，能夠制造光刻機，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術水平來看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機能夠達到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個數字，這是某機構統(tǒng)計的，2021年全球半導體前道光刻機的銷售情況，從這張表可以看出來，小米7nm的EUV光刻機，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣出4臺，另外的
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- 近日，格芯以非法使用知識產權和商業(yè)秘密為由起訴了美國 IBM。而日本 Rapidus 公司計劃利用 IBM 提供的技術，在日本國內再次量產先進產品，而這里的先進產品指的就是 2 納米芯片。雖然 3 納米還未得到普及，但是產業(yè)圍繞 2 納米的討論卻一直熱烈。為了發(fā)展 2 納米制程，不只晶圓廠摩拳擦掌，芯片制造設備公司也已經將 2 納米的設備提上日程。據 TechNews 的報道，光刻機大廠 ASML 已向臺灣地區(qū)相關部門申請研發(fā)補貼，以資助 2 納米晶圓光學測量設備的開發(fā)和生產。官司打起來了，ASML 也動
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- 中國電動汽車市場讓 ASML、LAM 對中國充滿信心。
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