據(jù)彭博社報道，ASML 與中國大陸客戶合作正面臨更嚴格的限制。

知情人士稱，荷蘭出口管制規(guī)則將禁止 ASML 在未經(jīng)政府批準的情況下為受控設(shè)備進行維護、修理和提供備件。這些限制與該國政府 6 月份發(fā)布的新規(guī)定有關(guān)，該規(guī)定禁止 ASML 從 9 月份開始在沒有許可證的情況下向中國大陸運送浸入式深紫外光刻機。

知情人士表示，除了荷蘭的管制外，美國預(yù)計還將禁止 ASML 在未經(jīng)華盛頓批準的情況下向大約 6 家中國大陸晶圓廠出售更舊的 DUV 光刻設(shè)備，拜登政府瞄準的中國晶圓廠之一是由中芯國際運營的一家工廠。

這些雙重限制是在喬·拜登總統(tǒng)政府去年對中國大陸實施全面出口限制的基礎(chǔ)上實施的，并有可能隨著時間的推移削弱中國大陸半導(dǎo)體公司的能力。中國政府對技術(shù)限制做出了強烈反應(yīng)，向世界貿(mào)易組織提出申訴。

SemiAnalysis 研究小組創(chuàng)始人迪倫·帕特爾 (Dylan Patel) 表示：「荷蘭的規(guī)定是官方的立場，因為荷蘭不希望中國大陸能夠生產(chǎn)最先進的半導(dǎo)體產(chǎn)品。如果無法獲得這些機器，中國芯片公司將在全球先進邏輯和存儲芯片市場處于劣勢。」

「我預(yù)計新的限制將嚴重影響中國大陸芯片公司的未來計劃，」帕特爾說?！杆麄兛赡軙黄韧七t或取消某些未來尖端工藝技術(shù)的開發(fā)?！?/p>

ASML 從未能夠向中國大陸出售其最先進的芯片制造機器，這些機器使用極紫外（EUV）光刻技術(shù)，這是因為美國及其盟友擔心這些技術(shù)可能被用來提升中國的軍事能力。

知情人士稱，拜登政府將通過援引《外國直接產(chǎn)品規(guī)則》對 ASML 實施新的限制，該規(guī)則允許 ASML 限制外國設(shè)備供應(yīng)商的銷售，只要這些供應(yīng)商的產(chǎn)品含有哪怕少量的美國零部件。

此前，唐納德·特朗普政府采取了 FDPR 措施，以防止使用任何美國科技公司的芯片制造商未經(jīng)批準向華為技術(shù)有限公司提供制造服務(wù)。此舉基本上削弱了這家中國電信巨頭曾經(jīng)利潤豐厚的智能手機業(yè)務(wù)。

其中一位人士表示，美國還可能禁止 ASML 為 6 家目標晶圓廠安裝的未經(jīng)許可的受限機器提供維護和維修服務(wù)以及提供備件。知情人士表示，目前尚不清楚美國何時會實施這些額外限制。

知情人士稱，雖然荷蘭早些時候抵制美國對 ASML 實施域外控制，但拜登政府和荷蘭首相馬克·呂特 (Mark Rutte) 就額外限制的國家安全必要性達成了諒解。預(yù)計荷蘭新法規(guī)不會受到該國聯(lián)合政府最近垮臺的影響。

荷蘭政府、美國商務(wù)部和 ASML 的代表拒絕置評。另外，ASML 本周表示，由于芯片行業(yè)低迷以及 2022 年的大規(guī)模招聘活動，該公司計劃今年放慢招聘速度。

除了阻止中國大陸升級其半導(dǎo)體技術(shù)之外，美國和荷蘭的新管制措施還可能會隨著時間的推移減少中國大陸企業(yè)相對先進芯片的現(xiàn)有產(chǎn)能。該國用于修理或更換損壞的外國設(shè)備的國內(nèi)替代品有限。ASML 幾乎壟斷了全球制造先進和傳統(tǒng)芯片所需的關(guān)鍵光刻設(shè)備。

拜登政府在 2022 年 10 月份對美國芯片制造的維護和維修實施了與原來的出口管制規(guī)則類似的控制，這些限制影響了 ASML 的美國同行，包括應(yīng)用材料公司。

支持 7nm 高端 DUV 光刻機仍可出口

6 月底，荷蘭政府宣布了限制某些先進半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)定，這些規(guī)定將于 9 月 1 日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進芯片制造設(shè)備的公司在出口之前須獲得許可證。

ASML 在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式 DUV 光刻系統(tǒng)（即 TWINSCAN NXT:2000i 及后續(xù)浸潤式系統(tǒng)）時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。

ASML 強調(diào)，該公司的 EUV 系統(tǒng)的銷售此前已經(jīng)受到限制。

據(jù) ASML 官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式 DUV 光刻機產(chǎn)品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

ASML 3 月曾表示，預(yù)計 2000i 和 2050i 這兩款產(chǎn)品會受到荷蘭政府的出口限制。再對比阿斯麥今天的回應(yīng)來看，TWINSCAN NXT:1980Di 這款浸潤式 DUV 光刻機并不在限制范圍內(nèi)。

ASML 官網(wǎng)上關(guān)于這一臺 TWINSCAN NXT:1980Di 的介紹，其中在分辨率方面，寫到是大于等于 38nm（可以支持到 7nm 左右），而這是指一次曝光的分辨率，事實上光刻機是可以進行多次曝光的。

理論上 NXT:1980Di 依然可以達到 7nm，只是步驟更為復(fù)雜，成本更高，良率可能也會有損失，晶圓廠用這一臺光刻機，大多是生產(chǎn) 14nm 及以上工藝的芯片，很少去生產(chǎn) 14nm 以下的工藝，因為良率低，成本高，沒什么競爭力。