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        開始1-γ芯片制程開發(fā)?美光日本廠擬引入ASML光刻機

        作者: 時間:2023-05-18 來源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

        知情人士稱,美國科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭公司的先進芯片制造設(shè)備EUV(極紫外),以制造下一代存儲芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補貼。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/202305/446738.htm

        日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實了在日的進一步投資。他指出,日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性,也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進存儲芯片。

        今日(周四),日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團,而有關(guān)芯片的詳細計劃可能在之后陸續(xù)宣布。

        自2013年以來,美光已經(jīng)在日本投資超過130億美元,其中包括去年宣布的



        關(guān)鍵詞: 1-γ 芯片制程 美光 ASML 光刻機

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