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        一種采用分離柵極閃存單元實現(xiàn)可編程邏輯陣列的新型測試結構

        作者:Henry Om’man 時間:2014-04-01 來源:電子產品世界 收藏

          簡介

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/235707.htm

          大多數(shù)陣列使用易失性存儲器作為配置數(shù)據(jù)存儲元件。最近,有人嘗試使用非易失性存儲器(NVM)替代?;贜VM的FPGA是嵌入式IP應用的理想選擇,其架構和許多增強功能可改善芯片集成度、IP使用率和測試時間。Robert Lipp等人提出了一種采用淺溝槽隔離(STI)工藝的高壓三阱EEPROM檢測方案。為了能及時編程,使用此方法的開關器件需要高于±16V的電壓。Kyung Joon Han等人通過用深溝槽隔離工藝替代高壓三阱工藝對此方案進行了改進。但是,深溝槽NVM器件操作采用FN隧穿,需要在柵極和通道之間分離±10V的電壓。此分離電壓操作需要三阱工藝。

          本文首次提出了一種新型測試結構,采用雙分離柵極單元創(chuàng)建配置元件。的分離柵極單元作為嵌入式應用的領先NVM解決方案而被業(yè)內熟知,這歸功于其與代工廠提供的基線邏輯工藝的兼容集成、低功耗且高度可靠的厚氧化層多晶硅間擦除、非常有效的源極側通道熱電子(SSCHE)注入編程、低電壓讀操作以及高耐用能力。因此,技術消除了對三阱工藝的需求以及傳感和電路,這通過使用的分離柵極技術來實現(xiàn),該技術符合標準CMOS工藝并采用分離柵極存儲器單元來存儲配置數(shù)據(jù)和直接配置邏輯陣列(SLA)開關元件。此外,還繼承了上述分離柵極閃存所具備的技術優(yōu)勢。



        關鍵詞: 可編程 閃存 SRAM SST SCE

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