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        良品率還不到20%!三星2nm工藝仍舊不堪大用

        作者: 時間:2024-09-13 來源:快科技 收藏

        在不靠譜這臺路上,似乎一直很靠譜……

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/202409/462935.htm

        根據(jù)集邦咨詢的最新報告,工藝仍然面臨極大困難,目前的良品率只有可憐的10-20%,完全無法投入量產(chǎn)。

        受此壓力,計劃在海外更大規(guī)模地裁員,從美國得克薩斯州的泰勒工廠撤回更多人員。

        事實上,據(jù)稱三星的整體良品率都不到50%,尤其是在3nm及更先進工藝上非常差勁。

        要知道,臺積電的整體良率約有60-70%。

        三星官方的計劃是,2025年量產(chǎn),包括SF2、SF2P、SF2X、SF2A、SF2Z等多個不同版本,2027年繼續(xù)量產(chǎn)1.4nm。

        據(jù)悉,三星工藝進一步完善了多橋-通道場效應晶體管(MBCFET)架構(gòu),具有獨特的外延和集成工藝,與基于FinFET的工藝技術相比,晶體管性能提升最多46%,可變性降低26%,漏電率降低約50%。

        此前還有說法稱,三星3nm工藝良率不到20%,三星對此回應稱,其在2022年全球首次量產(chǎn)3nm GAA工藝之后,第二代3nm工藝性能穩(wěn)定,且產(chǎn)量已步入正軌。

        目前,臺積電占據(jù)全球晶圓代工市場62.3%的份額,遙遙領先,三星雖然名義上是第二,但份額僅為11.5%,就連我國中芯國際都沖到了第三,已占據(jù)5.7%。

        良品率還不到20%!三星2nm工藝仍舊不堪大用



        關鍵詞: 三星 晶圓廠 2nm

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