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        鎧俠公布藍圖:2027年實現1000層3D NAND堆疊

        作者: 時間:2024-07-01 來源:全球半導體觀察 收藏

        近日,據媒體報道,日本存儲芯片廠商公布了3D NAND閃存發(fā)展藍圖,目標2027年實現1000層堆疊。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/202407/460504.htm

        表示,自2014年以來,3D NAND閃存的層數經歷了顯著的增長,從初期的24層迅速攀升至2022年的238層,短短8年間實現了驚人的10倍增長。正是基于這種每年平均1.33倍的增長速度,預測到2027年達到1000層堆疊的目標是完全可行的。

        而這一規(guī)劃較此前公布的時間早了近3年,據日本媒體今年4月報道,鎧俠CTO宮島英史在71屆日本應用物理學會春季學術演講會上表示,公司計劃于2030至2031年間推出1000層的3D NAND閃存芯片。

        鎧俠是全球知名的存儲芯片廠商,不過為應對需求低迷的市場環(huán)境,2022年10月,鎧俠宣布將調整四日市和北上市NAND Flash晶圓廠的生產,將晶圓生產量減少約30%。

        最新消息是,鎧俠已結束了為期20個月的減產動作,并將上述兩座NAND Flash工廠的產線開工率提升至100%。此外,隨著業(yè)務好轉,債權銀行已同意為6月份到期的5,400億日元貸款進行再融資。他們還將設立總額為2,100億日元的新信貸額度。

        除了公布最新3D NAND閃存發(fā)展藍圖外,鎧俠的IPO計劃似乎也迎來了新的進展。

        據媒體援引兩位知情人士的消息報道,鎧俠計劃在未來幾天提交一份在東京證交所上市的初步申請。知情人士稱,這家芯片制造商計劃在8月提交一份完整的申請,并預計于10月底上市,不過上市時間有可能會推遲到12月。



        關鍵詞: 鎧俠 3D NAND堆疊

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