美國(guó)為了擺脫對(duì)他國(guó)的芯片依賴，力促芯片制造業(yè)回流本土，美媒撰文分析，美國(guó)曾有機(jī)會(huì)引領(lǐng)芯片制造技術(shù)卻錯(cuò)過了機(jī)會(huì)，不只讓ASML獨(dú)大，也讓亞洲制造商臺(tái)積電、三星等主導(dǎo)了生產(chǎn)。

根據(jù)MarketWatch報(bào)導(dǎo)，ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)占有關(guān)鍵地位，是目前全球唯一有能力生產(chǎn)微影設(shè)備極紫外光（EUV）曝光機(jī)的企業(yè)。Dilation Capital基金經(jīng)理人Vijay Shilpiekandula指出，臺(tái)積電、英特爾和三星之間競(jìng)爭(zhēng)激烈，身為設(shè)備供貨商的ASML處在賺取AI熱潮紅利的最佳位置。

至于美國(guó)為何會(huì)失去對(duì)EUV技術(shù)這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)的控制權(quán)？美國(guó)財(cái)經(jīng)媒體報(bào)導(dǎo)，主因是英特爾的的戰(zhàn)略錯(cuò)誤，時(shí)任執(zhí)行長(zhǎng)布萊恩·科再奇（Brian Krzanich）不相信該技術(shù)能夠以經(jīng)濟(jì)的規(guī)模發(fā)揮作用，因此放棄了ASML第1代EUV機(jī)器的生產(chǎn)。

Brian Krzanich對(duì)于英特爾在尖端芯片制造制程方面領(lǐng)先于同行充滿信心，但事實(shí)證明這是1個(gè)錯(cuò)誤決定，臺(tái)積電使用EUV制程，在2018年左右首次在技術(shù)上超越英特爾。

英特爾執(zhí)行長(zhǎng)的基辛格（Pat Gelsinger）則希望他不會(huì)重蹈前任的覆轍，英特爾已收到ASML第一臺(tái)最新型高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)，在接下來幾年，英特爾打算將此系統(tǒng)部署到18A后的節(jié)點(diǎn)（1.8納米制程）。