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        Intel 2029年上1.4nm工藝?非官方路線圖

        作者:上方文Q 時(shí)間:2019-12-12 來(lái)源:快科技 收藏

        Intel的制程一直備受關(guān)注。今天早些時(shí)候,荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML()放出一張路線圖,赫然羅列了Intel 7nm、5nm、3nm、2nm、1.4nm等節(jié)點(diǎn),尤其是最后這個(gè)將在2029年上馬的1.4nm非常意外,是我們第一次看到非整數(shù)節(jié)點(diǎn)。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/201912/408112.htm

        就此消息,快科技收到了Intel官方的澄清聲明。

        Intel 2029年上1.4nm工藝?非官方路線圖

        原來(lái),這張路線圖并非完全來(lái)自Intel官方,而是ASML CEO Martin van den Brink拿了此前Intel 9月份公布的一張制程工藝更新PPT修改而來(lái),自行添加了原來(lái)沒(méi)有的幾個(gè)工藝名稱,但并未說(shuō)明,造成了誤會(huì)。

        這才是Intel的原圖:

        Intel 2029年上1.4nm工藝?非官方路線圖

        換句話說(shuō),Intel對(duì)于7nm、5nm、3nm等等這些新工藝肯定是在研究推進(jìn)的,原始PPT也明確2021年開(kāi)始,會(huì)每?jī)赡陮?duì)制程工藝進(jìn)行一次重大升級(jí),而且每代工藝都有+、++兩次優(yōu)化更新。

        但是更具體的新工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)和對(duì)應(yīng)時(shí)間表,Intel尚未公布,1.4nm這樣的另類更是完全無(wú)從談起。

        當(dāng)然在另一方面,ASML作為光刻機(jī)巨頭,可以說(shuō)是Intel工藝進(jìn)步的源頭之一,雙方合作關(guān)系密切,肯定了解一些Intel的規(guī)劃,但未來(lái)究竟如何發(fā)展,還是要等Intel官方公布的消息了。

        Intel還向我們強(qiáng)調(diào),在摩爾定律精神的指引下,Intel推進(jìn)創(chuàng)新的決心始終堅(jiān)定!

        Intel 2029年上1.4nm工藝?非官方路線圖




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