近日，德克薩斯州聯(lián)邦陪審團(tuán)作出一項(xiàng)裁決：三星電子因侵犯韓國(guó)技術(shù)學(xué)院一項(xiàng)專(zhuān)利技術(shù)，需向后者支付賠償金或?qū)⒏哌_(dá)4億美元。

　　據(jù)了解，韓國(guó)技術(shù)學(xué)院曾向法院提起訴訟，指控三星電子侵犯了其鰭片晶體管技術(shù)(FinFET)制程工藝相關(guān)的專(zhuān)利技術(shù)。然而三星向陪審團(tuán)表示，它與韓國(guó)技術(shù)學(xué)院合作開(kāi)發(fā)了這項(xiàng)技術(shù)，并否認(rèn)侵犯了相關(guān)專(zhuān)利技術(shù)。三星還對(duì)這項(xiàng)專(zhuān)利的有效性提出了質(zhì)疑。就在三星對(duì)此不屑一顧時(shí)，其對(duì)手英特爾公司開(kāi)始向這項(xiàng)技術(shù)的發(fā)明者取得許可授權(quán)，圍繞三星是否侵權(quán)的力量博弈發(fā)生了改變，三星才開(kāi)始重視這個(gè)事件的嚴(yán)重性。

　　據(jù)悉，三星的這一侵權(quán)行為被裁定為“有意為之”，這意味著法官可以將三星所需支付的賠償金額增加到陪審團(tuán)規(guī)定的三倍。