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        未來的Flash記憶體

        —— 目前估計Flash記憶體制造尺寸最小為8nm
        作者: 時間:2012-07-16 來源:solidot 收藏

          記憶體加工尺寸正越來越小,容量越來越高,耗電量越來越低,但與CPU類似,到達某個尺寸后它也會迎來瓶頸,優(yōu)勢將變成劣勢?,F(xiàn)在市場上已有基于25nm或20nm制造工藝的,東芝在上個月宣布了基于19nm制造工藝的生產(chǎn)線。目前估計記憶體制造尺寸最小為8nm,可能要到20年代后期才可能出現(xiàn)。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/134673.htm

          加州圣迭戈和微軟研究人員的一篇論文假 設(shè)NAND浮置柵極晶體管可用6.5nm制造工藝生產(chǎn),那么一塊SLC(單層存儲單元)芯片容量能超過500 GB,而TCL(三層存儲單元)Flash芯片容量能達到1700 GB——一個能采用最多數(shù)百個Flash芯片,即它的容量可達到數(shù)百TB。

          但不幸的是,6.5nm Flash芯片的讀寫延遲會顯著增加,而低讀寫延遲是SSD相對于機械硬盤的主要優(yōu)勢。



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