Altatech Semiconductor獲得了一份多功能AltaCVD平臺(tái)訂單，該訂單來自德國慕尼黑Fraunhofer Research Institution。該200mm AltaCVD系統(tǒng)可用于等離子體增強(qiáng)CVD工藝，也可用于低于氣壓的CVD工藝，F(xiàn)raunhofer中心將用該設(shè)備在硅晶圓和SOI晶圓上淀積介質(zhì)層。