TSMC今(16)宣布，就美國國際貿(mào)易委員會(huì)(USITC)針對(duì)TSMC被指控28納米工藝技術(shù)有侵權(quán)之虞的調(diào)查案，得以有利于TSMC的方式終結(jié)。TSMC與請(qǐng)求USITC調(diào)查此案的美國新墨西哥大學(xué)專利授權(quán)機(jī)構(gòu)STC.UNM均已向法院提出終止調(diào)查申請(qǐng)，內(nèi)容請(qǐng)參閱USITC網(wǎng)站­--案件編號(hào)：337-TA-729、標(biāo)題：In the Matter of Certain Semiconductor Products Made by Advanced Lithography Techniques and Products Containing Same。

　　這項(xiàng)調(diào)查內(nèi)容指稱TSMC37納米及以下的半導(dǎo)體工藝侵害編號(hào)第6,042,998號(hào) (“998”專利)的美國專利，但TSMC否認(rèn)這項(xiàng)侵權(quán)指控。

　　TSMC資深副總經(jīng)理暨法務(wù)長杜東佑博士表示：「雖然TSMC對(duì)于此次STC.UNM這種基于無效專利而提出的案件感到遺憾，但仍欣見本案終能解決」。