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        次世代內(nèi)存技術(shù)研發(fā)掀起跨領(lǐng)域結(jié)盟熱潮

        作者: 時間:2010-10-19 來源:中國IC網(wǎng) 收藏

          繼Hynix(海力士)和HP(惠普)宣布合作開發(fā)新世代技術(shù)和材料,Elpida(爾必達)與Sharp(夏普)亦宣布共同研發(fā),讓次世代技術(shù)研發(fā)掀起跨領(lǐng)域結(jié)盟熱潮。業(yè)者預(yù)期,未來、3D NAND Flash、PRAM(相變化內(nèi)存)和MRAM(磁性隨機存取內(nèi)存)等次世代內(nèi)存,將會有一番激烈競爭。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/113620.htm

          值得注意的是,海力士與惠普日前才宣布要共同開發(fā)ReRAM技術(shù),惠普具有新的極小電子組件(Memory resistors;Memristors)技術(shù),采用十字結(jié)構(gòu),相較于傳統(tǒng)內(nèi)存電路,更容易在層內(nèi)堆棧,藉以讓晶體管儲存更多數(shù)據(jù),惠普已研發(fā)逾10年之久,藉由惠普的材料技術(shù),以及海力士在內(nèi)存領(lǐng)域量產(chǎn)和技術(shù)實力,雙方合作開發(fā)ReRAM芯片,預(yù)計在3年內(nèi)第1款產(chǎn)品問世,采22奈米制程生產(chǎn)。

          爾必達在內(nèi)存領(lǐng)域布局越來越廣泛,2010年取得已破產(chǎn)的奇夢達(QimONda)繪圖卡內(nèi)存(GDDR)技術(shù),又與飛索(SpaNSion)合作研發(fā)電荷捕獲 (charging-trapping)NAND Flash技術(shù),未來可能跨足到NOR Flash市場,近期則宣布與夏普合作開發(fā)ReRAM。未來爾必達將以內(nèi)存制程技術(shù),輔以夏普最擅長的材料技術(shù)和制作工法,切入30奈米制程,最快2011年研發(fā)出ReRAM相關(guān)材料和制造技術(shù),并由爾必達負責量產(chǎn)。

          內(nèi)存業(yè)者指出,海力士和爾必達紛攜手異業(yè),進軍次世代內(nèi)存技術(shù)領(lǐng)域,顯示次世代內(nèi)存的材料和技術(shù)門坎相當高,需要靠異業(yè)結(jié)盟來推動產(chǎn)品進入量產(chǎn)。至于惠普和夏普會投入內(nèi)存開發(fā),主要亦是為旗下PC、手持式產(chǎn)品等終端產(chǎn)品鋪路,確保能擁有效能最佳的內(nèi)存產(chǎn)品。

          ReRAM是一種次世代內(nèi)存技術(shù),未來應(yīng)用目標是取代NAND Flash和DRAM,ReRAM芯片能利用現(xiàn)有半導(dǎo)體制程制造,讀寫速度較NAND Flash芯片快許多,且大幅減少耗能。除ReRAM芯片外,其它次世代內(nèi)存技術(shù)包括3D NAND Flash、PRAM和MRAM等,都有不同的內(nèi)存大廠投入開發(fā),都是為銜接NAND Flash和DRAM技術(shù)瓶頸,未來各種次世代內(nèi)存都得經(jīng)過導(dǎo)入量產(chǎn)考驗。



        關(guān)鍵詞: 內(nèi)存 ReRAM

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