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ASML除了光刻機(jī)還有什么秘密武器
- ASML( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)的主要供應(yīng)商，也是EUV系統(tǒng)的唯一供應(yīng)商。根據(jù)Network題為“Sub 100nm光刻:市場分析與戰(zhàn)略問題”的報道，ASML當(dāng)前取得的成績可以匯總為以下幾點: 1)ASML占據(jù)EUV光刻市場100%的份額; 2)ASML占據(jù)浸沒式193nm DUV光刻市場93%的份額; 3)ASML占據(jù)248nm DUV光刻行業(yè)73%的份額。 2016年，ASML以31億美元收購了He
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EUV需求巨大！ASML最新財報顯示今年將出貨30臺
- 荷蘭當(dāng)?shù)貢r間1月23日，ASML發(fā)布了去(2018)年第四季度及全年的業(yè)績報告?！ 蟾嬷赋?，去年第四季度凈銷售額為31億歐元，凈收入為7.88億歐元，毛利率為44.3%。 具體來看，ASML指出，DUV光刻業(yè)務(wù)中，存儲客戶的需求使得TWINSCAN NXT:2000i保持著持續(xù)增長。同時ASML也提高了該產(chǎn)品的可靠性，據(jù)了解，上一代產(chǎn)品需要六個月才能達(dá)到高可靠性，而該產(chǎn)品僅用了兩個月?！ ∪ツ耆?，ASML凈銷售額為109億歐元，凈收入為26億歐元?！ ≈档米⒁獾氖牵珹SML已與尼康簽署了諒解
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全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)
- 用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術(shù)節(jié)點到今年(2019年，也是從今年開始)，每2年~3年一個階段向新的技術(shù)節(jié)點發(fā)展?！ 「叨诉壿嫲雽?dǎo)體的技術(shù)節(jié)點和對應(yīng)的EUV曝光技術(shù)的藍(lán)圖。 也就是說，在EUV曝光技術(shù)的開發(fā)比較順利的情況下，5nm的量產(chǎn)日程時間會大約在2021年，3nm的量產(chǎn)時間大約在2023年。關(guān)于更先進(jìn)的2nm的技術(shù)節(jié)點，還處于模糊階段，據(jù)預(yù)測，其量產(chǎn)時間最快也是在2026
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中國首臺ASML NXT2000i正式入駐SK海力士無錫工廠
- 12月19日晚間，中國首臺ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于無錫的工廠?！ ?jù)ASML證實，此次入駐SK海力士無錫工廠確為NXT2000i，也即NXT2000。ASML解釋道，i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的機(jī)器。所以NXT2000即NXT2000i?！ ?jù)了解，無錫是SK海力士在中國的DRAM內(nèi)存芯片生產(chǎn)基地，目前每月晶圓的產(chǎn)量約為14萬片?！ ⊥瑫r，SK海力士還成立了SK Hynix System IC公司，開始進(jìn)軍晶圓代工市場，同時增加100
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半導(dǎo)體設(shè)備廠商競爭格局生變？
- 半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商的排名在2016-2017年間沒有發(fā)生太大的變化，但是這種格局正在發(fā)生變化。不僅Lam Research、ASML和東京電子的位次發(fā)生調(diào)轉(zhuǎn)，排名第一的應(yīng)用材料公司的寶座位置也岌岌可危?！ ∽?990年以來，應(yīng)用材料公司一直是半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的市場領(lǐng)導(dǎo)者。在此之前的1989年，坐在鐵王座位置上的還是日本的東京電子，該公司2016年排名第四，今年前三季度的新排名則是第二。除了位次的變化，也許更重要的是，領(lǐng)頭羊和第二名的差距正在迅速收窄。 2016年，應(yīng)用材料公司的市場份額比Lam
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國產(chǎn)光刻機(jī)真的這么厲害嗎？這些光刻機(jī)知識您得知道
- 近日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收。消息傳著傳著，就成了謠言——《國產(chǎn)光刻機(jī)偉大突破，國產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機(jī)將打破“芯片荒”》……筆者幫您們捋一捋! 關(guān)于光刻機(jī)，這些知識您得知道 光刻機(jī)不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復(fù)的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個多世紀(jì)前，美國人用這個原理“印刷”電路，從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。為了節(jié)能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機(jī)越做越極
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ASML內(nèi)部“霍亂”，中國晶圓廠成為“首發(fā)受害者”
- 11月30日晚上，荷蘭費爾德霍芬的一個科技園區(qū)發(fā)生火災(zāi)，ASML的一家供應(yīng)商Prodrive遭受了重創(chuàng)，部分廠房與倉庫遭受波及。12月3日，ASML發(fā)表聲明稱：“Prodrive供應(yīng)ASML的部分電子元件和模組，ASML初步評估至2018年底的出貨計劃不變，但預(yù)期部分2019年初的出貨將受影響?！盇SML還表示需要幾周的時間詳細(xì)評估該事件對公司的影響。 ASML目前已開始協(xié)助Prodrive重啟生產(chǎn)，同時ASML也已與其他供應(yīng)商接洽，以確保相關(guān)組件和材料的替代來源供應(yīng)無虞?！ ?2月作為2018年最
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Imec與ASML聯(lián)手，EUV成主流技術(shù)工具
- 日前，有消息稱，比利時研究機(jī)構(gòu)Imec和微影設(shè)備制造商ASML計劃成立一座聯(lián)合研究實驗室，共同探索在后3nm邏輯節(jié)點的奈米級元件制造藍(lán)圖。此次雙方這項合作是一項為期五年計劃的一部份，分為兩個階段： 首先是開發(fā)并加速極紫外光(EUV)微影技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn)，包括最新的EUV設(shè)備準(zhǔn)備就緒。 其次將共同探索下一代高數(shù)值孔徑(NA)的EUV微影技術(shù)潛力，以便能夠制造出更小型的奈米級元件，從而推動3nm以后的半導(dǎo)體微縮?！ O紫外光(EUV)微影技術(shù) EUV光刻也叫極紫外光刻，它以波長為10-14 nm的極紫外
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ASML看好中國市場 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華
- 中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題?！ ”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對EUV光刻機(jī)的前景表示樂觀?！ 〈饲坝邢⒅赋觯行緡H(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機(jī)，預(yù)計明年交付，用于7nm節(jié)點。 同時，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進(jìn)的NXT：2000i，很快會在中國市場上也見到
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迫于美國政府壓力，光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國員工 ...
- 在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強(qiáng)了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?！ ≡诠饪虣C(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場，在EUV光刻機(jī)中更是獨一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強(qiáng)了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工。 如果說半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機(jī)可以說是皇冠上的明珠，因為光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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Entegris EUV 1010光罩盒展現(xiàn)極低的缺陷率，已獲ASML認(rèn)證
- 業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的公司Entegris(納斯達(dá)克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術(shù)進(jìn)行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設(shè)備制造商之一的ASML密切合作而開發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認(rèn)證，用于NXE:3400B等產(chǎn)品?！ ‰S著半導(dǎo)體行業(yè)開始更多地使用EUV光刻技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)制程的大批量制造(HVM)，對EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要嚴(yán)格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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