世界上第一臺高性能Peltier制冷設(shè)備

• 三星電子與約翰霍普金斯大學應(yīng)用物理實驗室 （APL） 一起展示了下一代Peltier冷卻技術(shù)的進展。Peltier器件通過利用珀爾帖效應(yīng)進行冷卻，其中向半導體施加電流會導致一側(cè)冷卻，而另一側(cè)會升溫。由于這種方法不依賴制冷劑，因此它正在成為傳統(tǒng)冷卻系統(tǒng)的一種有前途的環(huán)保替代方案。通過首次利用新開發(fā)的薄膜 Peltier 半導體器件，并通過先進的納米工程技術(shù)進行增強，研究團隊成功創(chuàng)造并展示了高性能 Peltier 制冷機。這種薄膜 Peltier 制冷機的冷卻效率超過了傳統(tǒng)蒸汽壓縮系統(tǒng)的冷卻效率，為下一代無制
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