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        日本發(fā)布新一代直接噴涂有機半導體材料技術(shù)

        •   近日,日本新一代涂布型電子元器件技術(shù)研究聯(lián)盟(ECOW)宣布開發(fā)出了直接噴涂有機半導體材料的技術(shù)。新技術(shù)有望成為利用“靜電噴霧沉積法(ESD)”技術(shù)取代真空蒸鍍技術(shù)以及旋涂法和噴墨法等涂布技術(shù)的第三種有機半導體成膜技術(shù)。該聯(lián)盟包括理化學研究所、崎玉大學、康奈可、東麗工程、理研風險公司FLOX等共計8個團體。   日本發(fā)布新一代直接噴涂有機半導體材料技術(shù)   ESD兼具真空蒸鍍技術(shù)和涂布技術(shù)的優(yōu)點,可解決這兩項技術(shù)的很多問題。在ESD中,噴嘴噴出的顆粒物粒徑非常小,在
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        有機半導體材料可實現(xiàn)30秒快速充電技術(shù)

        • StoreDot公司號稱已能利用有機材料制作半導體元件,除了能在30秒之內(nèi)把手機電池充滿之外,其制造成本更低、對環(huán)境的毒性更小,期待......
        • 關(guān)鍵字: 有機半導體材料  快速充電  
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        有機半導體材料介紹

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