據(jù)IBM官網(wǎng)消息，美國紐約州州長宣布與IBM、美光以及其他行業(yè)參與者合作，投資100億美元在紐約州 Albany NanoTech Complex 建設下一代 High-NA EUV 半導體研發(fā)中心。

IBM稱，這將是北美第一個也是唯一一個擁有高數(shù)值孔徑極紫外光刻(高NA EUV)系統(tǒng)的公共研發(fā)中心，可為開發(fā)和生產(chǎn)小于2nm的節(jié)點芯片鋪平道路。