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        佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”Grade10升級(jí)包

        —— 每小時(shí)晶圓產(chǎn)能可達(dá)300片 實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體光刻行業(yè)更高水平生產(chǎn)
        作者: 時(shí)間:2022-06-13 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

        佳能將于20228月初發(fā)售 ※1半導(dǎo)體FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級(jí)配件包(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“Grade10”升級(jí)包)。半導(dǎo)體FPA-6300ES6a 自發(fā)售至今,已經(jīng)在生產(chǎn)存儲(chǔ)器和邏輯電路的大型半導(dǎo)體器件制造廠(chǎng)商中收獲良好口碑,此次發(fā)布的“Grade10”升級(jí)包將助力該設(shè)備在300mm晶圓規(guī)格基礎(chǔ)上,以每小時(shí)高達(dá)300※2晶圓的加工能力實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體光刻行業(yè)內(nèi)的更高水平3。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/202206/435109.htm

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        佳能半導(dǎo)體FPA-6300ES6a


        投入工廠(chǎng)運(yùn)行的“FPA-6300ES6a”設(shè)備

         

        隨著市場(chǎng)對(duì)半導(dǎo)體器件需求的持續(xù)增長(zhǎng),半導(dǎo)體器件制造廠(chǎng)商也在不斷尋求具備更高生產(chǎn)能力的半導(dǎo)體光刻設(shè)備。自20124月推出半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”以來(lái),佳能在提升設(shè)備生產(chǎn)能力的過(guò)程中不斷實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的升級(jí)與迭代,并在市場(chǎng)中贏得了客戶(hù)群體的廣泛認(rèn)可和高度信賴(lài)。

         

        新發(fā)布的“Grade10”升級(jí)包能夠在300mm晶圓規(guī)格基礎(chǔ)上,實(shí)現(xiàn)每小時(shí)300片晶圓的高效率生產(chǎn)。此外,這一升級(jí)包將于2023年在KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”的200mm兼容設(shè)備上得到應(yīng)用。

         

        實(shí)現(xiàn)行業(yè)更高水準(zhǔn)的生產(chǎn)效率

        Grade10”升級(jí)包通過(guò)加快工作臺(tái)和傳送系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng),縮短了曝光時(shí)間和傳輸時(shí)間,以每小時(shí)300片晶圓的產(chǎn)能,實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體光刻行業(yè)的更高水準(zhǔn)生產(chǎn)。同時(shí),這是佳能在半導(dǎo)體光刻設(shè)備上首次搭載基于人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)※4的工作臺(tái)控制系統(tǒng),減少高速驅(qū)動(dòng)產(chǎn)生的振動(dòng),以保持高精度光刻水準(zhǔn)。此外,通過(guò)選取套刻精度(Overlay)配件,在提升產(chǎn)能的同時(shí),可實(shí)現(xiàn)高達(dá)4nm※5套刻精度。

         

        支持現(xiàn)有設(shè)備的升級(jí)

        對(duì)于已經(jīng)在半導(dǎo)體器件制造廠(chǎng)商中投入使用的KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a ※6,無(wú)需更換設(shè)備即可通過(guò)使用“Grade10”升級(jí)包進(jìn)一步提高生產(chǎn)效率。

         

        未來(lái),佳能將繼續(xù)帶來(lái)多樣化的解決方案,并提供能夠有效提升生產(chǎn)效率的配件升級(jí),更好地滿(mǎn)足半導(dǎo)體光刻設(shè)備市場(chǎng)的需求。

         

        *1 使用波長(zhǎng)248nm,由氪(Kr)氣體和氟(F)氣體產(chǎn)生的激光的半導(dǎo)體光刻機(jī)。1納米(納米)是10億分之一米。*2300mm晶圓規(guī)格基礎(chǔ)上和96次曝光條件下,每小時(shí)的晶圓曝光處理數(shù)量。

        *3在支持300mm晶圓規(guī)格的KrF半導(dǎo)體曝光設(shè)備中;統(tǒng)計(jì)時(shí)間截至2022612日(佳能調(diào)查顯示)。

        *4 模仿腦神經(jīng)結(jié)構(gòu)的機(jī)器學(xué)習(xí)算法之一。

        *5 單機(jī)自身的套刻精度。

        *6 需要應(yīng)用于KrF半導(dǎo)體光刻機(jī)“FPA-6300ES6a”的Plus機(jī)型。

         

        **為方便讀者理解,本文中佳能可指代:佳能光學(xué)設(shè)備(上海)有限公司,佳能(中國(guó))有限公司,佳能股份有限公司,佳能品牌等

         

         

        參考信息:

        < 什么是步進(jìn)式掃描光刻機(jī)?>

        “重復(fù)步進(jìn)并多次掃描曝光”的裝置稱(chēng)為“步進(jìn)掃描光刻機(jī)”,該裝置通過(guò)控制掩模臺(tái)與工作臺(tái)的同步運(yùn)動(dòng)的方式實(shí)現(xiàn)曝光動(dòng)作。由于步進(jìn)式掃描光刻機(jī)的掃描儀可以在掃描操作中覆蓋曝光視角,因此其主要優(yōu)點(diǎn)是易于通過(guò)調(diào)整鏡頭的有效區(qū)域來(lái)擴(kuò)大數(shù)值孔徑(NA, Numerical aperture),并在鏡頭像差較小的部分進(jìn)行曝光,從而更好地抑制曝光失真,帶來(lái)高精度曝光。




        關(guān)鍵詞: 光刻機(jī) KrF

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