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        EEPW首頁(yè) > 測(cè)試測(cè)量 > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 一種采用CMOS 0.18μm制造的帶EBG結(jié)構(gòu)小型化的片

        一種采用CMOS 0.18μm制造的帶EBG結(jié)構(gòu)小型化的片

        作者: 時(shí)間:2013-03-25 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

        2 及測(cè)試
        圖6為本設(shè)計(jì)的芯片圖,一對(duì)間距為100μm的焊盤(pán)與的輸入端口連接,用于的S參數(shù)測(cè)試。圖7為該天線的測(cè)試環(huán)境。一對(duì)片上天線面對(duì)面的放置在探針臺(tái)上,距離為d。該測(cè)試采用兩對(duì)間距為100μm的GS探針與網(wǎng)絡(luò)分析儀的兩個(gè)端口相連接,一測(cè)試其S參數(shù)特性。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/192823.htm

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        圖8為本次設(shè)計(jì)天線測(cè)試所得的S11,從圖中可以看出,該天線工作的中心頻點(diǎn)為17 GHz,與圖5所示有所偏差,同時(shí)-10 dB的阻抗帶寬也較圖5所示有極大的提高。這是由于工藝的工藝容差造成的,特別是硅襯底的電阻率,當(dāng)其電阻率從降低到,設(shè)計(jì)所得的天線的工作頻點(diǎn)將降低,同時(shí)帶寬將會(huì)有很大提高,這主要是由于硅襯底電阻率降低帶來(lái)更大的襯底損耗以及襯底等效電阻電容的變化。

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        圖9為在不同距離d的條件下測(cè)試所得的S21,從圖中可以看出,隨著距離的增加,其S21下降。同時(shí),在天線的工作頻點(diǎn)附近,其S21出現(xiàn)了一個(gè)谷底,這是由于結(jié)構(gòu)的存在,降低了天線的輻射效率。

        3 結(jié)束語(yǔ)
        本文采用TSMC 0.18μm設(shè)計(jì)了一種帶結(jié)構(gòu)的小型化片上天線。一種一維的結(jié)構(gòu)加載到了一根1.6 mm長(zhǎng)的片上偶極子天線,該結(jié)構(gòu)具有調(diào)節(jié)天線諧振頻率以及諧波抑制功能。仿真結(jié)果表明,本設(shè)計(jì)的天線在60 GHz具有三次諧波抑制的功能。而測(cè)試結(jié)果與仿真結(jié)果一致表明,EBG結(jié)構(gòu)對(duì)天線的加載極大的縮短了天線的尺寸。該片上天線可用于無(wú)線互連或者WCAN系統(tǒng)中。


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        關(guān)鍵詞: CMOS EBG 制造 天線

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