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        賽靈思SSI技術(shù)為FPGA帶來(lái)全新密度、帶寬和功耗優(yōu)勢(shì)

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        作者: 時(shí)間:2011-12-29 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          從基本的 ASMBL 架構(gòu)出發(fā),已經(jīng)推出了實(shí)現(xiàn)堆疊硅片集成的三項(xiàng)重大改進(jìn)(如圖3 所示)。首先,每個(gè)芯片 Slice 接收自己的時(shí)鐘和配置電路。其次,對(duì)走線架構(gòu)進(jìn)行了改進(jìn),通過(guò)對(duì)芯片進(jìn)行表面鈍化處理,實(shí)現(xiàn)了 邏輯陣列內(nèi)部布線資源的直接連接,繞開(kāi)了傳統(tǒng)的并行和串行 I/O 電路。第三,對(duì)每個(gè)芯片 Slice 進(jìn)行進(jìn)一步加工,形成微凸塊,以便將芯片連接到硅基片上。與采用傳統(tǒng) I/O 相比,正是這項(xiàng)創(chuàng)新使連接的數(shù)量大幅增加,同時(shí)又顯著降低了時(shí)延和功耗(與標(biāo)準(zhǔn) I/O 相比,單位功耗芯片間連接功能提高了 100 倍)。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/127574.htm

          

         

          圖 3:針對(duì)硅片堆疊集成進(jìn)行優(yōu)化的 芯片 Slice

          硅通孔技術(shù)實(shí)現(xiàn)硅中介層

          無(wú)源硅中介層負(fù)責(zé) 芯片的互聯(lián)。它采用風(fēng)險(xiǎn)低、良率高的 65nm 工藝技術(shù)制造而成,擁有四個(gè)金屬化層,以構(gòu)建用以連接多 FPGA 芯片的邏輯區(qū)的成千上萬(wàn)條跡線。(如圖 4 所示)

          

         

          圖 4:無(wú)源硅中介層

          圖5是已經(jīng)組裝完成的芯片堆疊的“X 光透視圖”。它在無(wú)源硅中介層上并行放置了四個(gè)堆疊的FPGA芯片(底視圖)。通過(guò)透明顯示,可以觀察到用硅中介層上的走線連接起來(lái)的 FPGA 芯片 Slice(未縮放)。

          

         

          圖5:組裝完成的芯片堆疊的“X光透視圖”



        關(guān)鍵詞: 賽靈思 FPGA

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