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        IR新款超小型PQFN2x2功率MOSFET登場

        —— 為低功率應(yīng)用擴展封裝組合
        作者: 時間:2011-06-15 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

                全球功率半導(dǎo)體和管理方案領(lǐng)導(dǎo)廠商國際整流器公司 (International Rectifier,簡稱) 擴展其封裝系列,推出新款的 PQFN 2mm x 2mm封裝。新的封裝采用最新的硅技術(shù),為一系列的低功耗應(yīng)用,包括智能手機、平板電腦、攝像機、數(shù)碼相機、筆記本電腦、服務(wù)器和網(wǎng)絡(luò)通訊設(shè)備,提供超小型、高密度和高效率的解決方案。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/120441.htm

                新款的PQFN2x2器件提供20V、25 V和30 V的選擇,并帶有標準或邏輯水平柵極驅(qū)動器。這些器件只需要4mm2的占位空間,采用最新的低電壓 N-通道和P-通道硅技術(shù),從而達到極低的導(dǎo)通電阻 (RDS(on)) ,以及等同PQFN3.3x3.3或PQFN5x6封裝的高功率密度。

                IR 亞太區(qū)銷售副總裁潘大偉表示:“IR的新型PQFN2x2器件進一步擴展IR廣闊的功率 MOSFET系列,也可以滿足我們客戶的需求,進一步縮小封裝尺寸,并結(jié)合基準硅技術(shù)。這些新器件擁有超小尺寸和高密度,非常適合于高度數(shù)字化內(nèi)容相關(guān)的應(yīng)用。”

                這個PQFN2x2系列包括為負載開關(guān)的高側(cè)而優(yōu)化的P-通道器件,帶來一個更簡單的驅(qū)動解決方案。同時,新器件的厚度少于1 mm,使它們與現(xiàn)有的表面貼裝技術(shù)兼容,并且擁有行業(yè)標準的占位空間,還符合電子產(chǎn)品有害物質(zhì)限制指令 (RoHS) 。

                產(chǎn)品現(xiàn)正接受批量訂單。數(shù)據(jù)及MOSFET產(chǎn)品選項工具已刊登于 IR 的網(wǎng)站 www.irf.com。



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