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        Lasertec護膜和掩膜雜質粒子檢查設備

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        作者: 時間:2006-01-30 來源: 收藏
        日前宣布成功地推出了新型異物——PEGSIS P100。這個設備能與90nm甚至更小尺寸半導體器件設計規(guī)則的掩膜兼容,具有很高的檢查速率和靈敏度。將這個產(chǎn)品視為2006年之前的旗艦產(chǎn)品,計劃在2006年受理10部訂單。
        該設備不僅將檢測靈敏度提高到了4μm,還能通過明視場檢查進行缺陷檢測。只要缺陷的種類清楚了,就能選擇合理的洗凈方法。今后幾個月內(nèi)還將配備可清除異物的選配功能,據(jù)介紹能夠當場清除異物。包括掩膜搬運等時間在內(nèi)護膜表面和掩膜背面的檢測時間不足10分鐘。


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