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        Vistec Lithography宣布與華中科技大簽署戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議

        作者: 時(shí)間:2010-04-12 來(lái)源:semiconductor 收藏

          電子束系統(tǒng)的知名廠商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國(guó)武漢華中科技大學(xué)光電工程學(xué)院簽署了戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議。武漢華中科技大學(xué)是大陸國(guó)家級(jí)重點(diǎn)院校之一,而 Vistec Lithography則是電子束設(shè)備的領(lǐng)先廠商,按協(xié)議規(guī)定,兩家將在納米技術(shù)研究和教學(xué)領(lǐng)域開(kāi)展合作。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/107820.htm

          這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學(xué)的EBPG5000pES電子束光刻系統(tǒng),裝備這套系統(tǒng)之后,華中科技大學(xué)在教學(xué),科研以及對(duì)外合作方面的實(shí)力將如虎添翼。華中科技大學(xué)稱(chēng):“裝備這種新型光刻系統(tǒng)之后,我們?cè)诠怆婎I(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力將大為增強(qiáng).”

          電子束光刻設(shè)備可用于制作光或進(jìn)行無(wú)需光的電子束直寫(xiě)光刻,直接在半導(dǎo)體材料上用電子束刻制所需的電路版圖。



        關(guān)鍵詞: Vistec-Lithography 光刻 掩膜

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