中文字幕 另类精品,亚洲欧美一区二区蜜桃,日本在线精品视频免费,孩交精品乱子片免费

<sup id="3hn2b"></sup>

    1. <sub id="3hn2b"><ol id="3hn2b"></ol></sub><legend id="3hn2b"></legend>

      1. <xmp id="3hn2b"></xmp>

      2. "); //-->

        博客專欄

        EEPW首頁 > 博客 > 匠心獨(dú)運(yùn)——感受MNT的獨(dú)特魅力

        匠心獨(dú)運(yùn)——感受MNT的獨(dú)特魅力

        發(fā)布人:旺材芯片 時(shí)間:2024-05-07 來源:工程師 發(fā)布文章
        圖片


        “在時(shí)代的浪潮中,總有一些企業(yè)以其獨(dú)特的理念和不懈的努力,書寫著屬于自己的傳奇。”



        ENTERPRISE STORY

        企業(yè)故事

        ENTERPRISE STORY




        微納(香港)科技

        有限公司(MNT)


        微納(香港)科技有限公司(MNT)成立于2014年,總部設(shè)在中國香港,是一家專門從事半導(dǎo)體設(shè)備與科研設(shè)備代理的高科技公司,致力于為中國半導(dǎo)體,材料,機(jī)械,醫(yī)學(xué),汽車,航天等領(lǐng)域提供國際尖端的制造設(shè)備,檢測設(shè)備及技術(shù)解決方案。








        目前, 微納(香港)科技有限公司(MNT)是多家歐美日韓儀器供應(yīng)商在中國的代理商,主要負(fù)責(zé)相關(guān)設(shè)備在中國的銷售,技術(shù)支持與售后服務(wù), 產(chǎn)品涵蓋多種晶圓減薄機(jī)、CMP化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、CMP后清洗機(jī)、晶圓顆粒度測量系統(tǒng)、磁控濺射鍍膜系統(tǒng)、熱蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng),電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng),納米壓印系統(tǒng)、衍射器件光學(xué)參數(shù)測量系統(tǒng),光學(xué)散射儀,晶圓厚度測量系統(tǒng)、晶圓翹曲度測量系統(tǒng)、晶圓平整度測量系統(tǒng)、膜厚測量儀,勻膠機(jī)、噴膠機(jī)、濕法臺(tái)、臨時(shí)鍵合/解鍵合機(jī)、熱板、晶圓貼膜機(jī)、晶圓貼片機(jī)、掃描超聲顯微鏡,共聚焦拉曼顯微鏡,原子力顯微鏡、光學(xué)輪廓儀、納米壓痕儀、微米壓痕儀、納米劃痕儀、微米劃痕儀、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、快速退火爐、棱鏡耦合儀等諸多產(chǎn)品,客戶遍及中國各大高校、科研院所及著名半導(dǎo)體企業(yè)。



        我司的服務(wù)理念是:


        專業(yè)成就品質(zhì),

        服務(wù)創(chuàng)造價(jià)值,

        誠信鑄就品牌!




        圖片


        展品推薦


        德國SENTRONICS 晶圓厚度測試系統(tǒng)


        圖片圖片

        樣品尺寸:

        4寸、6寸、8寸、12寸




        采用紅外光譜技術(shù),要用于測量晶圓的厚度、TTV、Bow、Warp以及wafer上各層薄膜厚度;

        采用白光干涉技術(shù),可得到wafer表面的3D形貌,表面粗糙度,TSV等關(guān)鍵尺寸,測量范圍為0-100um,分辨率為亞納米水平。


        圖片


        韓國CTS CMP化學(xué)機(jī)械拋光系統(tǒng)


        圖片圖片

        樣品尺寸:

        4寸、6寸、8寸、12寸




        采用氣囊加載模式,分區(qū)壓力控制(8寸以下分3區(qū),12寸分5區(qū));

        拋光墊修整器分區(qū)控制修整(8寸以下分10區(qū),12寸分13區(qū));

        采用直驅(qū)線性電機(jī),性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)的伺服電機(jī);

        片內(nèi)非均勻性WIWNU 1sigma,去邊5mm< 5%;

        片間非均勻性WTWNU 1sigma,去邊5mm< 3%;


        圖片


        德國OSIRIS濕法臺(tái)、CMP后清洗機(jī)、勻膠機(jī)、噴膠機(jī)、顯影機(jī)、刻蝕機(jī)、熱板


        圖片圖片

        兼容:

        2、4、6、8、12寸晶圓




        手動(dòng)/全自動(dòng)(帶機(jī)械臂/Cassette)可選;

        極高的均勻性及穩(wěn)定性(勻膠設(shè)備均勻性<1%,濕法刻蝕設(shè)備均勻性<3%);

        濕法刻蝕/清洗設(shè)備集成自動(dòng)混液系統(tǒng)



        *博客內(nèi)容為網(wǎng)友個(gè)人發(fā)布,僅代表博主個(gè)人觀點(diǎn),如有侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系工作人員刪除。



        關(guān)鍵詞: MNT

        技術(shù)專區(qū)

        關(guān)閉