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        EEPW首頁 >> 主題列表 >> 2nm工藝

        日本半導(dǎo)體巨頭Rapidus加速推進2nm工藝 預(yù)計2027年實現(xiàn)量產(chǎn)

        • 新興半導(dǎo)體公司 Rapidus 計劃在未來幾年大幅擴大其 2nm 研發(fā)力度,因為它看到了科技巨頭的巨大興趣。Rapidus 的 2nm 工藝采用 BSPDN 和 GAA 技術(shù),使其成為業(yè)內(nèi)獨一無二的實現(xiàn)。半導(dǎo)體供應(yīng)鏈長期以來一直被臺積電等公司主導(dǎo),而英特爾和三星代工廠等競爭對手也在努力鞏固自己的市場份額,因此還有很長的路要走。不過,據(jù)說日本領(lǐng)先的芯片制造公司 Rapidus 已加入尖端節(jié)點的競爭,據(jù)DigiTimes報道,該公司已經(jīng)在日本北海道開發(fā)了一個專用設(shè)施,以盡快進入量產(chǎn)階段。據(jù)稱,Rapidu
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        26億一臺!ASML全新光刻機準(zhǔn)備中:Intel提前鎖定 沖擊2nm工藝

        • 對于芯片廠商而言,光刻機顯得至關(guān)重要,而ASML也在積極布局新的技術(shù)。據(jù)外媒報道稱,截至 2022 年第一季度,ASML已出貨136個EUV系統(tǒng),約曝光7000萬個晶圓已曝光。按照官方的說法,新型號的EUV光刻機系統(tǒng) NXE:3600D將能達到93%的可用性,這將讓其進一步接近DUV光刻機(95%的可用性)。數(shù)據(jù)顯示,NXE:3600D系統(tǒng)每小時可生產(chǎn)160個晶圓 (wph),速度為30mJ/cm,這比 NXE:3400C高18%。二正在開發(fā)的 NXE:3800E系統(tǒng)最初將以30mJ/cm的速度提供大過1
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        不擠藥膏了?Intel與臺積電合作開發(fā)2nm工藝

        • 我們都知道,在2021年Intel在半導(dǎo)體芯片上進行了戰(zhàn)略轉(zhuǎn)變,除了自建工廠生產(chǎn)自家處理器之外,還要重新進入代工市場,同時也加強與晶圓代工廠的合作,此前有消息稱他們已經(jīng)拿了臺積電3nm一半產(chǎn)能,現(xiàn)在又要跟臺積電合作開發(fā)2nm工藝。爆料這一消息的是Northland分析師Gus Richard,它日前發(fā)布報告,將Intel目標(biāo)股價上調(diào)到62美元,并給出優(yōu)于指數(shù)的評級,看好Intel未來發(fā)展。根據(jù)他的說法,Intel不僅可能會將3nm制程工藝交給臺積電代工,同時也開始跟臺積電討論合作開發(fā)2nm工藝。不過這一說
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        臺積電CEO:2nm工藝已有先導(dǎo)規(guī)劃

        • 近日,全球第一大晶圓代工廠臺積電舉行了公司成立33周年慶典,董事長、聯(lián)席CEO劉德音談到了臺積電的先進工藝規(guī)劃,最先進的2nm工藝也進入了先導(dǎo)規(guī)劃中,明年則會量產(chǎn)5nm工藝。
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        2nm工藝介紹

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