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        “中國芯”傳來喜訊!中微半導(dǎo)體:突破5nm蝕刻機,3nm提上日程

        • 最近有一個名詞熱度很高,那就是“半導(dǎo)體”。半導(dǎo)體領(lǐng)域一直以來都是科技的代名詞,近幾年觀察一個國家科技發(fā)展水平,很大程度上就是觀察他的半導(dǎo)體領(lǐng)域發(fā)展情況。而我國在半導(dǎo)體領(lǐng)域卻一直面臨“卡脖子”的尷尬情況,這是因為我國在這方面的起步較晚,加上多種歷史因素共同導(dǎo)致的。當(dāng)然,現(xiàn)在我國已經(jīng)將科研重心傾斜到半導(dǎo)體領(lǐng)域,正在對此進行全方位全身心的研究,盡管進度一下子還沒有追上去,但是已經(jīng)取得了一定的成就。要知道無論是半導(dǎo)體的研究,還是芯片的生產(chǎn),都是技術(shù)含量非常高的東西,是無法一蹴而就的。為什么一直以來我國的芯片都跟不
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        蝕刻機和光刻機之間的區(qū)別,國產(chǎn)5nm蝕刻機取得臺積電認證

        • 最近5nm刻蝕機被炒的很火,網(wǎng)上鋪天蓋地的消息都在說,中國芯片已經(jīng)實現(xiàn)彎道超車,我國芯片將自給自足,不用擔(dān)心被卡脖子的問題了。其實這種說法是極其不專業(yè)的,純粹就是偷天換日、混淆視聽。乍一看光刻機和蝕刻機非常接近,但是光刻機和蝕刻機卻不能混為一談,因為蝕刻只是制造芯片其中之一的環(huán)節(jié)罷了。而刻蝕機也只是諸多芯片制造設(shè)備其中之一。下面我給大家聊一下蝕刻機。蝕刻機和光刻機其實就是完全不同的兩種設(shè)備,不論從功能還是結(jié)構(gòu)上來說都是天差地別,光刻機是整個芯片制造過程中最為核心的設(shè)備,芯片的制程是由光刻機決定的,而不是蝕
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        中微蝕刻機與臺積電合作 攜手45納米前進32納米

        •         據(jù)DigiTimes網(wǎng)站報道,大陸本土半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)者中微半導(dǎo)體盡管在與國際大廠應(yīng)用材料(Applied Materials)及科林研發(fā)(Lam Research)官司纏訟之中,但開拓市場腳步未停歇,目前45納米蝕刻機臺已經(jīng)打入臺積電12寸廠,正在進行設(shè)備驗證,同時也與韓國存儲器業(yè)者合作當(dāng)中。中微亞太區(qū)總經(jīng)理朱新武表示,中微完全是走自主研發(fā)路線,目前不僅65/45納米機臺已打入一線半導(dǎo)體業(yè)者供應(yīng)商行列,也已著手下1世代32
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        蝕刻機介紹

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