納米壓印光刻技術 文章 進入納米壓印光刻技術技術社區(qū)
納米壓印光刻技術旨在挑戰(zhàn)EUV
- 9 月，佳能推出了這項技術的第一個商業(yè)版本，有朝一日可能會顛覆最先進的硅芯片的制造。它被稱為納米壓印光刻 （NIL），能夠對小至 14 納米的電路特征進行圖案化，使邏輯芯片能夠與目前正在量產的 Intel、AMD 和 Nvidia 處理器相媲美。NIL 系統(tǒng)提供的優(yōu)勢可能會挑戰(zhàn)價值 1.5 億美元的機器，這些機器在當今先進的芯片制造中占據主導地位，即極紫外 （EUV） 光刻掃描儀。如果佳能是正確的，其機器最終將以極低的成本提供 EUV 質量的芯片。該公司的方法與 EUV 系統(tǒng)完全不同，后者完全由總部位于荷
- 關鍵字： 納米壓印光刻技術 EUV? 佳能 新芯片制造系統(tǒng)
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納米壓印光刻技術介紹
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