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EEPW首頁 >> 主題列表 >> 研磨拋光墊技術

研磨拋光墊技術文章進入研磨拋光墊技術技術社區(qū)

應用材料公司推出先進的化學機械研磨拋光墊技術

近日，應用材料公司宣布為200mm CMP（化學機械研磨）系統(tǒng)推出創(chuàng)新的Applied DuraPad CMP（化學機械研磨）拋光墊技術。DuraPad的使用壽命比現(xiàn)有的研磨墊至少延長了30%，有效地增加了機臺的有效使用時間，替客戶節(jié)約了可觀的擁有成本。在DuraPad制造過程中采用先進的six-sigma 制造技術保證了研磨墊不同批次之間性能的一致性，從而確保獲得良好的CMP研磨效果。應用材料公司全球服務部總經(jīng)理兼資深副總裁Manfred
關鍵字：工業(yè)控制化學機械研磨拋光墊技術應用材料公司工業(yè)控制

共1條 1/1 1

研磨拋光墊技術介紹

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