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        西門(mén)子EDA用AI工具解決首次流片成功率下降問(wèn)題

        • Siemens EDA 強(qiáng)調(diào),整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)第一枚硅晶圓流片的成功率下降令人震驚。Siemens EDA(Siemens Digital Industries Software 旗下公司)設(shè)計(jì)驗(yàn)證技術(shù)副總裁兼總經(jīng)理 Abhi Kolpekwar 表示,首次流片成功率正在下降,從 2022 年的 24% 和 2020 年的 32% 下降到 2024 年的 14%?!斑@在 ASIC 和 FPGA 中都是一個(gè)令人驚訝和令人震驚的下降,”他說(shuō)。這是一個(gè)非常大的問(wèn)題,可以追溯到今天人們流片的設(shè)計(jì)復(fù)雜性。該公司開(kāi)發(fā)了
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        流片成功率介紹

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