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磁控濺射法沉積TCO薄膜的電源技術(shù)

1前言透明導(dǎo)電氧化物薄膜(TCO薄膜)有著廣泛的用途，如作為L(zhǎng)CD、OLED顯示器面板的電極，作為觸摸屏的感應(yīng)電極，作為薄膜太陽(yáng)能電池的電極以及作為L(zhǎng)ED芯片前電極等[1]。目前，主要的TCO薄膜有氧化銦錫(ITO)、氧化錫(Sn
關(guān)鍵字：電源技術(shù) 薄膜 TCO 沉積磁控

對(duì)于SOl波導(dǎo)來(lái)說(shuō)，CVD技術(shù)一般用來(lái)淀積其上包層，通常為二氧化硅或氮化硅。對(duì)于調(diào)制器等有源器件來(lái)說(shuō)，這一層還起著隔離金屬電極減小電極對(duì)波導(dǎo)造成損耗的作用，所以厚度一定要選擇合適，不能太薄，如果薄了就不能起
關(guān)鍵字：工藝特點(diǎn) 沉積氣相 SOl 化學(xué) 波導(dǎo)

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