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        EEPW首頁 >> 主題列表 >> 極紫外光刻機(jī)

        ASML預(yù)測(cè),未來九個(gè)月對(duì)中國的銷量將大幅回升

        生產(chǎn)力提升15% ASML交付首臺(tái)極紫外光刻機(jī)

        • 芯研所消息,ASML第一臺(tái)全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機(jī)系統(tǒng)已經(jīng)交付給客戶,和前代產(chǎn)品相比生產(chǎn)力提高了約15-20%,套刻精度提高了約30%。據(jù)了解,本次交付的TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機(jī)的EUV光源波長13.5nm左右,物鏡NA數(shù)值孔徑0.33,第二代EUV光刻機(jī)將會(huì)是NXE:5000系列,物鏡NA提升到0.55,進(jìn)一步提高光刻精度。ASML表示,正努力增加EUV光刻機(jī)在存儲(chǔ)行業(yè)的量產(chǎn)應(yīng)用,計(jì)劃協(xié)助三個(gè)DRAM內(nèi)存芯片客戶在未來的工藝節(jié)點(diǎn)中導(dǎo)入EUV。
        • 關(guān)鍵字: ASML  極紫外光刻機(jī)  
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        極紫外光刻機(jī)介紹

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