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條狀過孔文章進(jìn)入條狀過孔技術(shù)社區(qū)

條狀過孔成大勢所趨

對于28納米及以下節(jié)點(diǎn)，各種新的設(shè)計要求使工程師不得不調(diào)整傳統(tǒng)的數(shù)字電路板圖設(shè)計和驗(yàn)證流程。尤其值得一提的是，過孔的使用受到了很大的影響。新的過孔類型已推出，雙重成像（double patterning）、FinFETS 和其它新的設(shè)計技巧的加入不僅使過孔的使用顯著增多
關(guān)鍵字：條狀過孔雙重成像 FinFETS 矩形過孔布局布線

傳統(tǒng)過孔數(shù)顯著增加條狀過孔成大勢所趨

摘要：對于28納米及以下節(jié)點(diǎn)，選擇和放置多種過孔類型的復(fù)雜要求對LEF/技術(shù)文件的繞線構(gòu)成了挑戰(zhàn)，導(dǎo)致設(shè)計規(guī)則檢 ...
關(guān)鍵字：過孔數(shù) 條狀過孔

共2條 1/1 1

條狀過孔介紹

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