光刻膠和掩膜版，純國產芯片生產需要克服的兩個重要障礙

• 無法制造純國產的高端芯片，是國人心中隱隱的痛！目前來說，阻礙國產高端芯片的最大瓶頸就是極紫外光刻機。但是，即使有了極紫外光刻機，也需要光刻膠和掩膜版來進行配套才行。一、光刻機不是直接刻蝕芯片正如上一個關于光刻機的視頻所說，芯片生產用的光刻機，只是起到曝光的作用，并不進行刻蝕。要想用光刻機進行直接刻蝕，必然面臨以下幾個難題。首先，要把激光功率做到足夠大，需要把硅或一些金屬氧化物直接氣化剝離。目前來說，波長越短的激光光源制造越困難，實現(xiàn)大功率越難，現(xiàn)有的紫外、極紫外光源難以產生足夠強的激光。尤其是極紫外光源，
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