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微影設備文章進入微影設備技術社區(qū)

臺積電取得ASML超紫外光微影設備以研發(fā)新世代工藝

　　TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設備，是全球六個取得這項設備的客戶伙伴之一。　　這項設備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(GigaFab™)-臺積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術。TSMC也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術的專業(yè)集成電路制造服務業(yè)者。　　相較于現(xiàn)行浸潤式微影技術以193納米波長當作光源，超
關鍵字：臺積電 EUV 微影設備 ASML

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微影設備介紹

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