微影技術(shù) 文章 進入微影技術(shù)技術(shù)社區(qū)
半導體廠倚重EUV 先進微影技術(shù)的強勁需求
- 微影設(shè)備業(yè)者ASML第一季已完成136臺極紫外光（EUV）曝光機出貨，累計超過7,000萬片晶圓完成EUV曝光。隨著EUV微影技術(shù)推進，預期2025年之后新一代EUV曝光機每小時曝光產(chǎn)量可達220片以上，以因應客戶端先進制程推進至埃米（Angstrom）世代對先進微影技術(shù)的強勁需求。雖然2023年半導體市況能見度低且不確定性高，但包括臺積電、英特爾、三星、SK海力士、美光等全球前五大半導體廠仍積極投資EUV產(chǎn)能，加上制程推進會帶動光罩層數(shù)增加，法人樂觀看好家登、帆宣、公準、意德士（等EUV概念股明年營運將
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臺積電與CEA-Leti合作推動無光罩微影技術(shù)
- 為積極朝向22納米制程技術(shù)前進，臺積電宣布與法國半導體研究機構(gòu)CEA-Leti簽訂合作協(xié)議，將參與由CEA-Leti主持的IMAGINE產(chǎn)業(yè)研究計畫，就半導體制造中的無光罩微影技術(shù)進行合作，這項計畫為期3年。日前曾傳出，由于經(jīng)濟前景不明，部分設(shè)備商延后22納米制程技術(shù)研發(fā)，臺積電此舉則希望更積極主動推動22納米無光罩微影技術(shù)。 這次臺積電參與的CEA-Leti IMAGINE研究計畫為期3年，所有參與這項計畫的公司都可取得無光罩微影架構(gòu)供IC制造使用，也可以藉由設(shè)備商Mapper所提供的技術(shù)提高
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微影技術(shù)介紹
微影技術(shù)(Lithography)是制造晶體管及它們之間的連結(jié)的關(guān)鍵技術(shù)，在半導體制程上較狹義之定義，一般是指以光子束經(jīng)由圖罩(Mask, Reticle)對晶圓(Wafer)上之阻劑照射；以電子束、離子束經(jīng)由圖罩、圖規(guī)(Stencil)對阻劑照射；或不經(jīng)由圖罩、圖規(guī)，對阻劑直接照射（直寫），使阻劑產(chǎn)生極性變化、主鏈斷鏈、主鏈交連等化學作用，經(jīng)顯影后將圖罩、圖規(guī)或直寫之特定圖案轉(zhuǎn)移至晶圓?！ ? [ 查看詳細 ]
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