- 雖然將會有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導體光刻技術，但是毫無疑問，這就是光刻技術的未來。與任何未來一樣，它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產使用EUV光刻機所使用的技術處理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機和其他設備的芯片尺寸，并使它們更加節(jié)能。這
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EUV 光刻膠
- 光刻膠是利用光化學反應經光刻工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移媒介。作用原理是利用紫外光、準分子激光、電子束、離子束、X
射線等光源的照射或輻射,使其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。光刻膠主要用于集成電路和半導體分立器件的微細加工，同時在平板顯示、LED、倒扣封裝、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有著廣泛的應用。光刻膠又稱光致抗蝕劑，由主要成分和溶劑構成，當前光刻膠主要使用的溶劑為丙二醇甲醚醋酸酯（PMA），占光刻膠含量約為80%-90%。主要成分包括樹脂、單體、光引發(fā)劑及添
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光刻膠
- 無法制造純國產的高端芯片，是國人心中隱隱的痛！目前來說，阻礙國產高端芯片的最大瓶頸就是極紫外光刻機。但是，即使有了極紫外光刻機，也需要光刻膠和掩膜版來進行配套才行。一、光刻機不是直接刻蝕芯片正如上一個關于光刻機的視頻所說，芯片生產用的光刻機，只是起到曝光的作用，并不進行刻蝕。要想用光刻機進行直接刻蝕，必然面臨以下幾個難題。首先，要把激光功率做到足夠大，需要把硅或一些金屬氧化物直接氣化剝離。目前來說，波長越短的激光光源制造越困難，實現大功率越難，現有的紫外、極紫外光源難以產生足夠強的激光。尤其是極紫外光源，
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光刻膠 掩膜版
- 作為半導體卡脖子的技術之一,很多人只知道光刻機,卻不知道光刻膠的重要性,這個市場也是被日本及美國公司壟斷,TOP5廠商占了全球85%的份額。國產光刻膠此前只能用于低端工藝生產線中,能做到G 線(436nm)、I 線 (365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻膠還是靠進口,EUV光刻膠目前還沒有公司能生產,基本上都控制在日本公司手中。不過EUV光刻膠也不是急需的,因為國內目前還沒有EUV工藝量產,193nm的ArF光刻膠更加重要,目前國內有多家公司正在攻關中,這種光刻膠可以用于28nm
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美國 日本 光刻膠
- 近年來,雖然中國在芯片設計領域有了突飛猛進的發(fā)展,涌現出了一批以華為海思為代表的優(yōu)秀的芯片設計企業(yè),但是在芯片制造領域,中國與國外仍有著不小的差距。不僅在半導體制程工藝上落后國外最先進工藝近三代,特別是在芯片制造所需的關鍵原材料方面,與美日歐等國差距更是巨大。即便強大如韓國三星這樣的巨頭,在去年7月,日本宣布限制光刻膠、氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫等關鍵原材料對韓國的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如熱鍋上的螞蟻,卻又無可奈何。最后還是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危機。而在美國制裁中興
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CPU處理器 光刻機 光刻膠
- 2019年7月初，日韓突然陷入制裁爭端，日本宣布限制對韓出口三種關鍵的半導體材料，分別是電視和手機OLED面板上使用的氟聚酰亞胺(Fluorine Polyimide)、半導體制造中的核心材料光刻膠(Photoresist)和高純度氟化氫(Eatching Gas)。日本方面敢這么做當然是有底氣的，基本壟斷著全球的氟聚酰亞胺、氟化氫材料市場，分別占全球份額的90％、70％之多，韓國企業(yè)更是嚴重依賴日本供應，禁售直接帶來了毀滅性的打擊。據外媒最新報道，日本經濟產業(yè)省已經部分解除了對韓國出口光刻膠的限制。今后
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韓國 日本 禁售 光刻膠
- ?臺積電爆發(fā)光刻膠規(guī)格不符事件導致大量報廢晶圓，牽動公司內部兩部門的人事異動，包括這次事件爆發(fā)地的 14 廠廠長已換將。
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光刻膠 臺積電
- 新式半導體光刻技術中，極紫外光刻(EUV)被認為是最有前途的方法之一，不過其實現難度也相當高，從上世紀八十年代 ...
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光刻膠 極紫外光刻
- 根據SEMI于SEMICON West上最新的數據報道，由于IC出貨量的持續(xù)增加，導致半導體材料用量己經回到近08年水平，但是預期2011年的增速減緩。
2010年總的半導體前道材料(fab Materials)將由09年的178.5億美元(與08年相比下降26，2%)提高到217.1億美元，但仍未超過2008年241.9億美元水平 。這是由SEMI分析師Dan Tracy在7月12日下午的年會上公布的數據。
在2010年中增長最快是硅片(32%up，達94.1億美元)，緊接著是光刻膠(2
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半導體材料 硅片 光刻膠
- TFT-LCD產業(yè)是當今產業(yè)界幾個高成長產業(yè)之一。近10年來，日本、韓國及我國臺灣等國家和地區(qū)，已經為它投資了上千億美元，形成地域相當集中、規(guī)模相當巨大的產業(yè)集群。
我國光刻膠用量逐年增加
中國液晶產業(yè)始于1980年，起步并不晚。但是我們長期限于TN、STN-LCD。在2003年后才真正開始大規(guī)模建設TFT-LCD生產線，目前已經量產的廠家主要是京東方、上廣電、龍騰和深超光電4家，產能約占全球總產能的4%。
目前我國在建和待建的大尺寸TFT-LCD生產線共有8條，其中，京東方除了規(guī)劃
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液晶 TFT-LCD 光刻膠
- 光刻膠是集成電路中實現芯片圖形轉移的關鍵基礎化學材料，在光刻膠的高端領域，技術一直為美國、日本廠商等所壟斷;近年來，本土光刻膠供應商開始涉足高檔光刻膠的研發(fā)與生產，蘇州華飛微電子材料有限公司就是其中一家。
據華飛微電子總工程師兼代總經理冉瑞成介紹，目前華飛主要產品系列為248nm成膜樹脂及光刻膠，同時重點研發(fā)193nm成膜樹脂及光刻膠和高檔專用UV成膜樹脂及光刻膠。
冉瑞成表示，248nm深紫外(DUV)光刻膠用于8-12英寸超大規(guī)模集成電路制造的關鍵功能材料，目前的供應商基本來自美國、日
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光刻膠 集成電路 芯片 半導體材料
光刻膠介紹
光刻膠-正文 又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑（見光譜增感染料）和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經適當的溶劑處理，溶去可溶性部分，得到所需圖像（見圖）。光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造以及印刷制版等過程。光刻膠的技術復雜，品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理， [
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