光刻機 文章 進入光刻機技術(shù)社區(qū)
ASML正計劃搬離荷蘭?向外擴張轉(zhuǎn)移業(yè)務(wù)成為最優(yōu)解

- 據(jù)路透社報道,光刻機巨頭阿斯麥(ASML)正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組,由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導(dǎo),以確保ASML繼續(xù)在荷蘭發(fā)展。消息還稱,ASML已向荷蘭政府提出了意向,表示將有可能在其他地方擴張或遷移,法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言,ASML發(fā)言人對媒體稱他們在考慮公司的未來,但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭?憑借先天的地理位置及海港內(nèi)陸網(wǎng)絡(luò),荷蘭一直為歐洲的交通樞紐,國家經(jīng)濟高度依賴國際貿(mào)易,2022年最新出口額占全國GDP之比超
- 關(guān)鍵字: ASML 荷蘭 EUV 佳能 光刻機
ASML 回擊質(zhì)疑:High-NA EUV 光刻仍是未來最經(jīng)濟選擇
- 2 月 2 日消息,ASML 首席財務(wù)官 Roger Dassen 近日接受了荷蘭當?shù)孛襟w Bits&Chips 的采訪。在采訪中,Dassen 回應(yīng)了分析機構(gòu) SemiAnalysis 的質(zhì)疑,表示 High-NA(高數(shù)值孔徑)EUV(極紫外光)光刻機仍是未來最經(jīng)濟的選擇。SemiAnalysis 之前刊發(fā)文章,認為 High-NA 光刻技術(shù)將使用更高的曝光劑量,從而明顯降低單位時間內(nèi)的晶圓吞吐量。這就意味著,相較于沿用現(xiàn)有的 0.33NA EUV 光刻機并搭配多重曝光,引入 Hig
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機
ASML兩款光刻機出口許可被撤銷
- 1月2日,全球光刻機龍頭ASML在官網(wǎng)發(fā)布聲明稱,荷蘭政府最近撤銷了此前頒發(fā)給其2023年發(fā)貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的部分出口許可證,這將對ASML在中國內(nèi)地的個別客戶產(chǎn)生影響。在聲明中,ASML表示:“在新的出口管制條例下,今年(指2023年)年底前ASML仍能履行已簽訂的合同,發(fā)運這些光刻設(shè)備??蛻粢惨阎こ隹诠苤茥l例所帶來的限制,即自2024年1月1日起,ASML將基本不會獲得向中國客戶發(fā)運這些設(shè)備的出口許可證?!鳖A(yù)計此次出口許可證撤銷及最新的美國出口管制限制不會對公司2023
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機 DUV EUV
DUV光刻機出口許可被撤 ASML:中國訂單已全數(shù)交付
- 近日光刻機巨頭ASML發(fā)布公告稱,去年2型DUV光刻機已獲準的出口許可證突然遭到撤銷,不過,中國大陸客戶預(yù)付購買DUV光刻機所積壓訂單基本都已完成交付。 據(jù)ASML指出,2023年NXT:2050i、NXT:2100i光刻系統(tǒng)的出貨許可證突然被撤銷,不過這沒有太多可以擔心的地方,因為2023年ASML基本已交付了中國大陸客戶預(yù)付的DUV積壓訂單,至于2023年之后是否能繼續(xù)出口DUV光刻,在此之前本就無法確定。《快科技》報導(dǎo)說,事實上2023年ASML一直都在向中國客戶供應(yīng)光刻機,其中就包含了NXT:20
- 關(guān)鍵字: DUV 光刻機 ASML
ASML聲明:2050、2100光刻機出口許可證被部分撤銷
- 1月2日消息,日前,荷蘭光刻機巨頭ASML在其官網(wǎng)發(fā)布聲明,稱部分光刻機出口許可證被撤銷。根據(jù)聲明,荷蘭政府最近部分撤銷了2023年NXT:2050i、NXT:2100i光刻系統(tǒng)的出貨許可證,影響了中國大陸的一小部分客戶。ASML預(yù)計,目前撤銷出口許可證或最新的美國出口管制限制不會對2023年財務(wù)前景產(chǎn)生重大影響。ASML還稱,在最近與美國政府的討論中,ASML進一步澄清了美國出口管制法規(guī)的范圍和影響。美國去年10月17日公布的出口管制新規(guī),對用于一些先進生產(chǎn)設(shè)施的某些次關(guān)鍵DUV浸沒光刻系統(tǒng)施加了限制。
- 關(guān)鍵字: 光刻機 ASML
ASML 向英特爾交付首臺高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備
- IT之家 12 月 22 日消息,ASML 公司近日通過官方 X(推特)賬號發(fā)布推文,宣布已經(jīng)向英特爾交付首臺高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備。IT之家此前報道,ASML 研制的高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備主要用于生產(chǎn) 2nm 工藝半導(dǎo)體芯片,數(shù)值孔徑(NA)光學(xué)性能從 0.33 提高到 0.55。ASML 明年規(guī)劃產(chǎn)能僅有 10 臺,而英特爾已經(jīng)預(yù)訂了其中 6 臺,不過 ASML 計劃在未來幾年內(nèi)將此設(shè)備產(chǎn)能提高到每年 20 臺。ASML 新的高數(shù)值孔徑 EUV 系統(tǒng)涉及一種全新的工具,具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭
- 關(guān)鍵字: ASML 光刻機 英特爾
80臺光刻機,88億元!荷蘭正式宣布,外媒:拜登心都碎了
- 光刻機作為芯片制造的核心設(shè)備,被譽為現(xiàn)代工業(yè)皇冠上的明珠。它的重要性可以從半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的角度來看。芯片作為電子產(chǎn)品的核心組件,直接決定了企業(yè)和國家科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展的上限。而光刻機作為芯片制造的核心工具,直接影響著芯片的制造工藝和性能。因此,擁有自主的光刻機制造能力對于一個國家來說至關(guān)重要。然而,中國科學(xué)家在向ASML公司請教技術(shù)問題時遭遇了嘲諷,這揭示了中國芯片產(chǎn)業(yè)在光刻機制造領(lǐng)域的薄弱之處。光刻機的制造難度極高,組裝一臺光刻機需要十萬個零部件,且每個零部件都要達到行業(yè)內(nèi)的最高水準。由于ASML公司使用了大量
- 關(guān)鍵字: 光刻機 中芯國際
晶圓代工廠商瘋搶光刻機設(shè)備!
- 盡管半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍處調(diào)整周期中,但部分應(yīng)用市場需求強勁,正吸引半導(dǎo)體廠商積極擴產(chǎn),而在芯片制造過程中,制造設(shè)備不可或缺。近期,為滿足市場需要,全球光刻機大廠ASML又有新動作。ASML大手筆,每年1億歐元扶持柏林廠據(jù)德國媒體《商報》(Handelsblatt)報道,近日,荷蘭半導(dǎo)體公司阿斯麥(ASML)將在2023年投資1億歐元(1.09億美元),未來幾年每年將投資相同金額,擴大其位于德國柏林制造工廠的生產(chǎn)和開發(fā)能力。ASML德國區(qū)董事總經(jīng)理George Gomba表示,勞動力也將隨之增加。Gomba表示自
- 關(guān)鍵字: 晶圓代工 光刻機
尼康投放光刻機新產(chǎn)品 尋求逆勢開拓中國市場
- 據(jù)三菱UFJ摩根士丹利證券數(shù)據(jù)顯示,目前在全球光刻機市場中,掌握了62%市場份額的ASML排行第一,佳能以占比31%取得第二名,而尼康占比僅7%排在了第三位。不過據(jù)日經(jīng)新聞報道,尼康為了重振業(yè)績將轉(zhuǎn)變半導(dǎo)體光刻機業(yè)務(wù)的戰(zhàn)略,決定逆勢積極開拓中國市場,向中國出口不受出口管制限制的成熟設(shè)備。在美國對華實施出口管制的背景下,EUV等先進光刻機、材料被禁止對華出口。尼康精機業(yè)務(wù)負責人濱谷正人表示,正與日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省討論,認為新款光刻機沒有問題,將在中國市場積極銷售。目前尼康除了相機影像業(yè)務(wù)外,半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)的精機
- 關(guān)鍵字: 尼康 光刻機 半導(dǎo)體
繞開ASML重振業(yè)績 日本尼康逆勢開拓中國光刻機市場
- 日本尼康(Nikon)為了重振業(yè)績,將大幅轉(zhuǎn)變半導(dǎo)體光刻機業(yè)務(wù)的戰(zhàn)略。目前全球市占率排名第3的尼康將采用不違反對華出口管制的成熟技術(shù)設(shè)備,在2024年投放新產(chǎn)品,通過尋求逆勢開拓中國市場,以實現(xiàn)卷土重來?!度战?jīng)中文網(wǎng)》報導(dǎo)說,尼康預(yù)測2023財年(截至2024年3月)的合并凈利潤將同比減少22%,降至350億日元(約合臺幣72億元)。半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)的精密機械業(yè)務(wù)以及相機影像業(yè)務(wù)是2大支柱,其中高檔微單相機銷售強勁,但精密機械業(yè)務(wù)低迷影響獲利。報導(dǎo)說,光刻機是半導(dǎo)體制造的核心,三菱UFJ摩根士丹利證券的調(diào)查
- 關(guān)鍵字: ASML 尼康 光刻機
佳能押注納米壓印技術(shù) 挑戰(zhàn)光刻機老大ASML
- 日本佳能一直在投資納米壓印(Nano-imprint Lithography,NIL)這種新的芯片制造技術(shù),并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備集群。計劃將新型芯片制造設(shè)備的價格定為阿斯麥極紫外光刻機的十分之一左右,從而在光刻機領(lǐng)域取得進展。佳能首席執(zhí)行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,基于NIL的新型芯片制造設(shè)備售價將比阿斯麥(ASML)的極紫外光刻(EUV)設(shè)備少一位數(shù),雖然最終的定價目前還沒有敲定,但是可以預(yù)見將為小型芯片制造商生產(chǎn)先進芯片開辟出一條新的道路。
- 關(guān)鍵字: 佳能 納米壓印 光刻機 ASML 半導(dǎo)體
光刻機介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機,300毫米清洗機,。
如您感興趣請登錄以下網(wǎng)站或Email:
網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
www.chihoc [ 查看詳細 ]
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國際技術(shù)信息咨詢有限公司
