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	?asml
        

        
	
        
    	
        
    	  	
        
              	
                                
        
                  

                                
        
                    
        分析師：ASML是導致內(nèi)存芯片供不應求局面的罪魁之一
        
                                                            
                                        
          
                    	
        • 　　對于內(nèi)存廠商來說，已經(jīng)過去的2009年就像是一場噩夢。而2010年情況則大有好轉，可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺，芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準備時間加 長，產(chǎn)品價格居高不下的問題。在本周三舉辦的Memcon會議上，一位分析師將今年內(nèi)存廠商遇到的這些問題歸結為由內(nèi)存廠商自身的問題而引起，不過著名光 刻設備制造商ASML則也在被指責之列。

 
　　Objective Analysis市調(diào)公司的分析師Jim Handy認為內(nèi)存市場的上揚期恐怕不久便會結束，他并稱2011年中期或2012年間內(nèi)存芯片
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        • 關鍵字：
                        ASML  內(nèi)存芯片                          
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        ASML整合微影方案獲意法采用
        
                                                            
          
                    	
        • 　　受惠于晶圓代工與DRAM廠推出先進制程，對浸潤式顯影機臺需求大增，讓半導體設備大廠艾斯摩爾(ASML)2010年接單暢旺，隨著半導體制程推進5x奈米以下先進制程，制程復雜度大增，亦需加緊提高量良率，讓ASML甫于2009年推出的整合微影技術(Holistic Lithography)系列產(chǎn)品，已獲得意法半導體(STMicroelectronics)采用于28奈米制程。
　　ASML指出，隨著半導體制程推進到50x奈米以下制程，業(yè)者投入的經(jīng)費越來越高昂，生產(chǎn)時程亦拉得更長，良率更難提升，制程容許度(p
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        • 關鍵字：
                        ASML  DRAM  晶圓代工                          
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        Sokudo早餐會上論光刻技術趨勢
        
                                                            
          
                    	
        • 　　在SEMICON West舉行的Sokudo光刻論壇上對于實現(xiàn)22nm的各類光刻技術的進展、挑戰(zhàn)與未來市場前景進行了熱烈的討論。
　　作為193nm光刻技術的接替者，ASML仍是全球EUV(遠紫外光光刻機) 技術的領先供應商。該公司的首臺NXE3100機器將如期發(fā)貨，目前正在作最后的組裝及測試。盡管如此，由于EUV技術中目前能提供的光源功率及掩模缺陷仍是此類技術的主要挑戰(zhàn)。另外，為了達到工業(yè)使用指標急需投入大筆資金。
　　Nikon指出它仍繼續(xù)采用兩次圖形曝光方法來延伸193nm高NA(數(shù)值孔徑)
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        • 關鍵字：
                        ASML  22nm  光刻                          
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        Imec和ASML共同驗證用于沉浸式光刻的新型照明系統(tǒng)
        
                                                            
          
                    	
        • 　　Imec和ASML已合作驗證ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可編程照明系統(tǒng)FlexRay，通過22nm SRAM單元的制造展示了其潛在應用價值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i掃描光刻設備將安裝FlexRay產(chǎn)品，幫助imec進一步開拓沉浸式光刻技術的應用。
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        • 關鍵字：
                        ASML  光刻機                          
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        ASML Q2業(yè)績創(chuàng)新高 6套EUV設備將交貨
        
                                                            
          
                    	
        • 　　ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷售達到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價值1,179 million 歐元，包括了48套新系統(tǒng)及11套二手系統(tǒng)。各項數(shù)據(jù)均較2010年Q1有所提高。
　　ASML總裁兼CEO Eric Meurice認為，Q2銷售的強勁增長證明了半導體產(chǎn)業(yè)近期對于光刻設備的需求，已有近20套NXT:1950i 設備運出。所有ASML的先進NXT光刻機都包括了一個或多個一體化光刻部件。對于下一代將要應用于20nm以下節(jié)點的產(chǎn)品，E
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        • 關鍵字：
                        ASML  光刻機                          
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        32nm制程用沉浸光刻設備客戶需求量劇增：ASML公司召回先前遭辭退員工
        
                                                            
                                        
          
                    	
        • 　　據(jù)荷蘭ASML公司高管透露，由于最近半導體廠商對沉浸式光刻設備的需求量劇增，著名光刻廠商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工，同時還 招聘了數(shù)百名新員工，這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工，同時還預計公司將可保證各個客戶對光刻設備的訂單需求。
　　由于消費電子設備以及PC市場對高密度芯片的需求在不斷上升，ASML公司的高管表示他預計他的客戶們在今明兩年不會碰上所生產(chǎn)的芯片產(chǎn)品供過于求的情況。

　　據(jù)ASML公司今年一季度公布的財報數(shù)據(jù)顯示，這家光刻廠商今年一季度末的N
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        • 關鍵字：
                        ASML  32nm  光刻設備                          
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        聯(lián)電計劃發(fā)行12.98億新股募資190億新臺幣
        
                                                            
          
                    	
        • 　　據(jù)臺灣媒體報道，聯(lián)電近日宣布，將發(fā)動公司成立30年來首次私募案。業(yè)界揣測，聯(lián)電將藉此引進新策略伙伴，對象包括整合元件制造廠德儀 (TI)、設備大廠ASML，以及新崛起的同業(yè)Global Foundries(GF)等，再次挑戰(zhàn)臺積電。
　　半導體產(chǎn)業(yè)景氣佳，晶圓代工廠聯(lián)電積極擴產(chǎn)，南科12寸廠第3、4期廠房20日完工啟用。聯(lián)電董事會同時決議，辦理12.98億股額度私募增資案，換算相當公司已發(fā)行股數(shù)的一成，每股面額10元。以聯(lián)電前天收盤價計算，最多可募得逾190億元資金。
　　聯(lián)電發(fā)言人劉啟東坦言，&
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        • 關鍵字：
                        聯(lián)電  晶圓代工  ASML  Global Foundries                          
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        未來三年內(nèi)存價格將持續(xù)攀升
        
                                                            
          
                    	
        • 　　DRAMeXchange傳來噩耗稱內(nèi)存芯片的價格在未來三年內(nèi)將持續(xù)走高。這家市場分析公司將內(nèi)存產(chǎn)業(yè)的興衰周期定為3年左右，據(jù)該公司的分析師表示，2001-2003年，內(nèi)存業(yè)者一直處在虧損期，而2004-2006年則恢復為持續(xù)盈利的狀態(tài)，2007-2009年間則再度出現(xiàn)虧損期，因此他們預計從2010年開始，在全球經(jīng)濟危機緩和，Windows7日漸流行等因素的影響下，內(nèi)存業(yè)者將再度扭虧為盈，進入新的一輪三年盈利期。
　　不過內(nèi)存業(yè)者仍然面臨另外一個重要的難題，他們要將制程水品提升到50nm以上級別則一般
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        • 關鍵字：
                        ASML  光刻  內(nèi)存芯片                          
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        ASML第一季訂單大幅超越預期 對半導體行業(yè)復蘇抱信心
        
                                                            
          
                    	
        • 　　荷蘭半導體設備生產(chǎn)商ASML日前公布，第一季營收為7.42億歐元，優(yōu)于路透調(diào)查得到的分析師預估值7.13億歐元。
　　第一季機器訂單總量為50部，總價值為10億歐元，路透調(diào)查預估分別為43部和10億歐元。
　　首席執(zhí)行官Eric Meurice在聲明中稱：“我們第一季訂單總值為10.04億歐元，預計第二季訂單水準類似，這證實了半導體行業(yè)正處于上升周期。”
　　分析師將ASML訂單情況視作衡量芯片制造大企業(yè)預期的風向標。
　　第一季凈利為1.07億歐元，路透調(diào)查得到的分析
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        • 關鍵字：
                        ASML  半導體設備  芯片制造                          
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        ASML第一季訂單量繼續(xù)增長 
        
                                                            
          
                    	
        • 　　荷蘭半導體設備生產(chǎn)商ASML的訂單狀況顯示今年第一季情況繼續(xù)好轉，投資者將詳細審視該公司業(yè)績，以尋找芯片行業(yè)結構性復蘇的跡象。
　　分析師將該公司的訂單情況視作英特爾和臺積電等大型芯片生產(chǎn)商業(yè)績預估的風向標。
　　根據(jù)路透調(diào)查，第一季半導體光刻設備訂單料為43筆，多于前一季的40筆。
　　ASML是全球最大的光刻設備生產(chǎn)商，其競爭對手包括日本的Nikon和佳能。
　　分析師預計ASML第一季凈利為9,900萬歐元(1.324億美元)，營收為7.13億歐元。15位分析師的營收預估范圍為5.90億
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        • 關鍵字：
                        ASML  光刻                          
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        去年光刻機市場銷量總體下跌47%
        
                                                            
          
                    	
        • 　　據(jù) Information Network報道，繼2008年銷量下跌25%之后，2009年全球半導體光刻工具的銷量進一步下跌了47%。按銷售數(shù)量計算，去年光刻工具的銷量總和下降了54%，其中248nm DUV光刻機的銷量下降的最嚴重，售出的數(shù)量下跌了70%。
　　去年光刻機銷售營收最高的是ASML公司，其所占的市場營收份額達到50%，而尼康公司則在銷售的光刻機數(shù)量方面保持領先，其售出的光刻機數(shù)量占到了總量的56%。而2008年，ASML公司則在銷售營收和銷售機臺數(shù)量上均排在頭名。
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        • 關鍵字：
                        ASML  光刻工具                          
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        半導體能支撐未來的發(fā)展
        
                                                            
          
                    	
        • 　　相比于2009年今年全球半導體業(yè)的態(tài)勢好了許多，但是仍有少部分人提出質(zhì)疑，2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎?
　　在今年1月由SEMI主辦的工業(yè)策略年會上(ISS)，有些演講者表示一些擔憂，認為雖然半導體業(yè)正在復蘇的路上，但是制造商們?nèi)匀鄙偌で?，不肯繼續(xù)大幅的投資，以及不太愿意重新擴大招慕員工。
　　恐怕更大的擔心來自全球半導體業(yè)間的兼并與重組到來，以及產(chǎn)業(yè)能否支持得起22納米及以下技術的進步。
　　IBS的CEO Handle Jones認為，雖然工業(yè)正在復蘇，但是在半導體業(yè)運營中仍面臨成
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                        ASML  半導體  EUV                          
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        臺積電取得ASML超紫外光微影設備以研發(fā)新世代工藝
        
                                                            
          
                    	
        • 　　TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布，TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設備，是全球六個取得這項設備的客戶伙伴之一。
　　這項設備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(GigaFab™)-臺積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術。TSMC也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術的專業(yè)集成電路制造服務業(yè)者。
　　相較于現(xiàn)行浸潤式微影技術以193納米波長當作光源，超
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                        臺積電  EUV  微影設備  ASML                          
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        半導體設備行業(yè)：全面走出陰影
        
                                                            
                                        
          
                    	
        • 　　10月是收獲的季節(jié)，對全球半導體設備行業(yè)來說，這句話同樣適用。經(jīng)歷了全球經(jīng)濟危機后，各大設備公司10-11月公布的季度報表開始全面飄紅。
　　Applied Materials 11月11日公布的09年第4季財報顯示公司已扭虧為盈，凈收入實現(xiàn)1.38億美元，而上季虧損為5500萬美元。其Q4銷售額為15.3億美元，其中半導體設備銷售占6.56億美元，公司同時已收到了6.29億美元的半導體設備新訂單。

　　ASML總裁兼CEO Eric Meurice 更是喜不自勝，因為在10月14日公布的09
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                        ASML  半導體設備                          
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        光刻巨頭ASML四季度來首次盈利
        
                                                            
          
                    	
        • 　　隨著芯片廠商設備訂單的恢復，歐洲最大的半導體設備制造商ASML報出了2930萬美元的凈利潤，為四個季度來首次盈利。
　　ASML在今天的聲明中表示該公司第三季度凈利潤為1970萬歐元(2930萬美元)，即每股5歐分，低于去年同期7330萬歐元的利潤水平。不過這超過了彭博社調(diào)查7位分析師所得出的1060萬歐元的市場預期。
　　該公司首席執(zhí)行官埃里克·莫里斯(EricMeurice)表示，ASML的設備可以讓芯片客戶生產(chǎn)出尺寸更小的芯片，隨著客戶在設備投資上恢復投入，該公司本季度銷售額將
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                        ASML  光刻  半導體設備                          
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