Reference Flow 10.0還包括了Questa®和0-In®平臺的高級功能驗證特性，用于復(fù)雜IC設(shè)計的增強型驗證。

• 基于標(biāo)準(zhǔn)的解決方案，支持IEEE標(biāo)準(zhǔn)、1801-2009™ UPF和IEEE標(biāo)準(zhǔn)、1800-2005™ SystemVerilog。
• 集成低功耗仿真和形式化功能，在設(shè)計流程早期驗證高級功耗管理電路。
• 跨電路復(fù)雜時鐘域靜態(tài)和動態(tài)驗證，保證標(biāo)準(zhǔn)和低功耗模式下能正常工作。

　　“臺積電Reference Flow 10.0中完整的Mentor設(shè)計到硅片流程允許我們一起幫助共同的客戶解決在28nm所面臨的最大挑戰(zhàn)，包括低功耗設(shè)計和驗證、大規(guī)模SoC實施、工藝多變性、經(jīng)濟型測試和良品率分析，”Mentor Graphics主席和CEO Walden C. Rhines說。“行業(yè)在向28nm工藝過渡時也提出了新的技術(shù)挑戰(zhàn)，Mentor為此有自己獨到的解決方案。我們與臺積電密切合作，利用工具消除設(shè)計師和代工廠間的距離，并同時幫助客戶在提高產(chǎn)品性能和可靠性的同時縮短產(chǎn)品的上市時間。”