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        晶圓背面基于具有成本效益的批量擠壓印刷平臺

        作者: 時間:2004-09-30 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          日前,DEK公司成功開發(fā)出高產(chǎn)量的晶圓背面涂層工藝,基于具有成本效益的批量擠壓平臺,其工藝性能將超越大部分晶圓處理專家所限定的



        關鍵詞: 印刷 其他IC 制程

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