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        美材料公司稱首款45納米IC07年將面市

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        作者:ChinaByte 時(shí)間:2006-07-17 來(lái)源: 收藏
            據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,美國(guó)公司日前在舊金山舉行的美國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備及材料展覽會(huì)上推出了好幾款新型制造工具,并表示全球首款采用45納米制程工藝生產(chǎn)的(集成電路)應(yīng)該可以于2007年擺上貨架,另外以32納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)的芯片將只能在2007年之后推出。

          公司總裁兼首席執(zhí)行官M(fèi)ichael R. Splinter表示,最近從客戶那兒收到的反饋信息顯示,客戶對(duì)采用90納米以下制程工藝生產(chǎn)的產(chǎn)品感到非常滿意。首批采用45納米制程工藝生產(chǎn)的芯片應(yīng)該可以于2007年面市,并于2009-2010年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

          他還表示,采用32納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)的產(chǎn)品只有在2007年以后才能推出。 
         


        關(guān)鍵詞: IC 應(yīng)用材料

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