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        半導(dǎo)體制造:又逢更新?lián)Q代時

        作者:李健 《電子產(chǎn)品世界》編輯 時間:2010-06-18 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          如此看來,IDM與之間已經(jīng)明顯出現(xiàn)制程節(jié)點的不同,這一趨勢將持續(xù)存在下去。現(xiàn)在尚不能評價半代和全代工藝哪個更適合半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,至少半代總算是一種技術(shù)上的進步,只是做出半代還是全代選擇的權(quán)利還是應(yīng)該留給芯片設(shè)計者,在選擇中去體驗兩種技術(shù)的不同也許對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)來說才是更健康的發(fā)展之路。

        本文引用地址:http://www.antipu.com.cn/article/110118.htm

          參考文獻:

          [1]李健. 半代工藝盛行 Fabless的幸福還是無奈[OL] .http://lijian1.spaces.eepw.com.cn/articles/article/item/72393

          [2]TSMC. TSMC宣布發(fā)展20nm工藝[R].2010.04.14

          [3]李健. 40nm工藝帶來全新競爭力[J].電子產(chǎn)品世界,2009,16(9)

          [4]賽靈思.賽靈思 28 nm技術(shù)及架構(gòu)發(fā)布背景[R].2010.02.23

          [5]高通.高通公司與TSMC在工藝技術(shù)上攜手合作[R].2010.01.11


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